球面旋涂光刻胶工艺-光学精密工程.pdf

第 卷 第 期 光学 精密工程 １９ ８ 　 Ｖｏｌ．１９ Ｎｏ．８ 　 　 　　　　 　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　 　　 　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２０１１ ８ Ａｕ．２０１１ 　 　 　 ｇ 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２０１１０８１８１００６ 　 球面旋涂光刻胶工艺 ， １２ １ １ １ １ １ 刘小涵 ，冯晓国 ，赵晶丽 ，高劲松 ，张红胜 ，程志峰 （ 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室， １． 吉林 长春 ； 中国科学院 研究生院，北京 ） １３００３３２． １０００３９ 摘要：研究了离心式涂胶工艺理论以实现在凹球面内表面涂布厚度均匀的光刻胶。首先，讨论了影响膜厚均匀性的主要 因素；接着，用流体力学理论分析了离心式开口向下球面涂胶过程中胶液的受力流动状态，建立了出胶膜厚度与离心机 转速、胶液粘度、旋涂时间等参数关系的数学模型；最后，为了验证理论的正确性，在口径 φ１２０ｍｍ，凹球面半径 ３００ｍｍ， 矢高 的 玻璃试验件内表面开展涂胶工艺实验。测试分析结果表明，该理论分析模型与实际情况相符，根据 １２．５ｍｍ Ｋ９ 理论分析采用主轴与工件旋转轴偏心的装夹方法，在整个球面内表面可以得到厚度均匀的胶膜。当光刻胶黏度为 １．１ ，主轴转速为 ／ 时，可在凹球面上涂布厚度为 的均匀胶膜。 １．９Ｐａ ３０００ ６０００ｒｍｉｎ ０．５ １ ｍ ～ ～ ～ μ 关 键 词：光刻胶；离心式涂胶；流体力学；胶膜厚度；胶液粘度；转速； 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ ＴＮ３０５．７ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＯＰＥ１８１０ 　　 　　 犘狉狅犮犲狊狊狅犳狊犺犲狉犻犮犪犾犺狅狋狅狉犲狊犻狊狋狊犻狀犮狅犪狋犻狀 狆 狆 狆 犵 ， １２ １ １ ， ， ， ＬＩＵＸｉａｏｈａｎ ＦＥＮＧＸｉａｏｕｏ ＺＨＡＯＪｉｎｌｉ ｇ ｇ