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直流磁控溅射一步法原位制备MgB超导薄膜!-物理学报.pdf

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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 1! % %% % , , , 4;C 21! Q; 2% R=S+TA+U %% ( ) !7/%M%%M1! % M3673 B5,B HNO*P5B *PQP5B %% 5?-@ 2 H?U 2 *;D 2 直流磁控溅射一步法原位制备!#$ 超导薄膜! 马平 刘乐园 张升原 王昕 谢飞翔 邓 鹏 聂瑞娟 王守证 戴远东 王福仁 (人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京大学物理系,北京 !#$!) ( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿) %! $ % %! # 用’() 靶,控制直流磁控溅射工作在异常辉光放电或弧光放电状态,在 *+,-. 衬底上原位一次性得到了 % / 超导薄膜,其起始转变温度为 ,零电阻温度为 ’() /%0 !10 2 % 关键词:高温超导体,超导薄膜,磁控溅射,二硼化镁 : , , %’’ $3$4 $3$1 #!!15 激光蒸镀的方法来制备薄膜的,而且都需要经过异 位或原位在高温和富 的气氛中进行后处理后, ! 引 言 ’( 才能得到具有零电阻 ! 的’() 薄膜2 D % 具有较高性价比的二元金属间化合物’() 材 由于二次处理对环境气氛要求较严格,使得薄 % [,] 料的超导电性! % 被发现后,立即受到了研究者们的 膜的制备显得相当不容易2 另外,激光蒸镀时,由于 [,] / 3 喷溅效应,膜表面都会有较多的大尺寸颗粒而变得 广泛重视 先后研究了它的各种超导特性 ,从确 2 [] 定其为空穴型超导体1 、用 的同位素效应验证其 粗糙,对于制作器件等应用也不利2 ) [] 6 从应用需要的角度来说,像制备:;=?;@ 结和 超导机制也是在

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