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铸锭工艺助理工程师考试题
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铸锭工艺考试试题及答案模板
一、填空题
AUTONUM .硅是一种化学元素,化学符号是(Si),原子序数是(14),属于 元素周期表上IVA族的类金属元素。
AUTONUM .多晶硅按纯度可分为(太阳能)级和(电子)级。
AUTONUM .单晶硅就是晶向和结构一致的硅。多晶硅通常是由(无固定晶向)和(结构)的硅组成。
AUTONUM .单晶硅棒生产最常用的工艺就是(直拉法),简称CZ。
AUTONUM .太阳能级硅的固态和液态的密度分别(2.33)g/cm3、(2.53)g/cm3。
AUTONUM .晶体硅在底部形核时,核心数目较(多),晶粒尺寸较(小)。
AUTONUM .石英坩埚的化学成份是(二氧化硅),化学式是(SiO2)。
AUTONUM .测量炉腔压力的两个压力计量程各为(1~1000 mbar), (0~1 mbar)。
AUTONUM .破碎的块状多晶硅具有无规则的形状和随机尺寸分布,其线性尺寸最小为(3)mm,最大为(200)mm。
AUTONUM .块状、棒状多晶硅断面结构应(致密)。
AUTONUM .156*156型锭开方后产生(25)块硅块,(20)块边料。
AUTONUM .公司主要原料是硅、主要参杂剂为(硼)。
AUTONUM .硅的定向凝固时硼的分凝系数是(0.8),磷的分凝系数是(0.35),碳的分凝系数是(0.07)。
AUTONUM .硅晶体的晶胞是(金刚石)结构,含有(8)个原子,密排面是(111)面。
AUTONUM .从能量转换角度来讲,硅熔化过程是(吸热),长晶是(放热)。
AUTONUM .热传导方式有哪几种(热辐射)、(热对流)、(热传导),多晶铸锭炉的热传导方式以(热辐射)为主。
AUTONUM .DSS炉在气体模式框中显示(outlet)时,此时(inlet)流量固定,(outlet)自动调节保持设定压力。
AUTONUM .头尾红区不良,造成头部红区不良主要为(金属)杂质;造成尾部红区不良主要为(氧)杂质。
AUTONUM .位错的类型包括(刃型位错),(螺型位错),(混合位错)。
AUTONUM .坩埚涂层的主要成分是(氮化硅),化学式是(Si3N4)。
21.现单晶中氧施主使P型单晶电阻率(减小)、退火后其电阻率会(增加)。
22.硅材料中杂质一般有(间隙态)、(替位态)、(复合体)、(沉淀)四种存在形态。
23.气体模式下,最大压力值(900mbar);真空模式下,最大压力值(5mbar)。
24.硅锭号定义是:(7)位。
25.目前发现的硅有 (三)种同位素。
26.DSS冷供应却水在(24)度左右,当到达(35)度时出现报警,如果持续上升达到(45)度时,系统默认无水供应。
27.DSS炉运行出现拉弧时,电压会(不变)、电流会(增加)、输出功率会(增加)。
28.国标中对原生硅料划分了(3)个级别。
29.刷边液的主要成分为(硅粉);刷底液的主要成分为(硅粉)和(氮化硅)。
30.当前使用的氮化硅主要为(α)晶相。
31.M2硅锭生产判断熔化主要为(TC2)耦丝。
32.多晶铸锭过程中氧杂质主要来源(坩埚)。
33.坩埚喷涂所用材料化学式为(Si3N4)。
34.回收车间在回收的为(氮化硅)和(硅粉)。
35. 回收氮化硅主要分为(干粉) 氮化硅和(湿粉)氮化硅。
二、单选
36.以下( C )为硅片事业部生产的终端产品
A. B. C. D.
37.Ar流量误差最大报警值是(A)
A.10% B.15% C.12% D.20%
38.加热跳转到熔化的条件是(B )
A.TC1=1170℃ B.TC1=1175℃ C.TC2=1170
39.坩埚喷涂使用的是(A)
A.氮化硅悬浮液 B. 液态氮化硅 C.SiC溶液 D.液态SiC
40. 硅料国标中1级料对氧含量的要求为(B) atoms/cm3
A. ≤1.0×1016 B. ≤1.0×1017 C. ≤1.5×1016 D. ≤1.5×1017
41. 硅料国标中1级料对碳含量的要求为(A) atoms/cm3
A. ≤2.5×1016 B. ≤2.5×1017 C. ≤4.0×1016 D. ≤4.0×1017
42. 公司硅料标准4级料可使用于(A)
A.仅多晶生产 B. 仅单晶生产 C.单多晶皆可 D. 单多晶都不可
43.边料切下的T1料叫(C)
A边T1料 B边尾料 C边头料
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