《长距离准直二元光学元件的设计》【毕业设计论文】.docVIP

PAGE 中北大学2010届毕业设计说明书 TOC \o 1-3 \h \z \u 1 引言 根据光的折射和反射原理工作的传统成像光学系统在设计时经常会遇到一些原理性和技术性的限制，从而不得不在光学系统的性能、结构和成本之间做某些牺牲以求得某种平衡，这种状况已持续多年，使得成像光学系统的发展十分缓慢。自八十年代中期以来，衍射光学及二元光学得到了迅速的发展，并成为光学领域最具活力的研究方向之一，给传统光学系统的发展注入了新的活力。将衍射光学元件的原理和技术应用于成像光学系统，创造出新一代衍射混合光学系统，可以突破传统光学系统的限制，有利于成像光学系统色差及其它高级像差的校正，对提高成像光学系统的性能、简化系统结构、降低系统成本具有重要意义。二元光学元件是指基于光波的衍射理论，利用计算机辅助设计，并利用超大规模集成电路制作工艺，在基片上(或传统光学器件表面)产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。这一定义清楚地阐明了衍射光学的理论基础、元件的制作方法、结构特点以及实际应用中所表现出的优势。二元光学元件是纯位相型同轴浮雕式衍射光学元件，并以多台阶位相结构来近似连续浮雕结构，同时在制作时，利用计算机设计和超大规模集成电路制作工艺等技术生产的一种高效率的新型功能元件。 1.1 衍射及二元光学发展的历史回顾 二元光学元件源于全息光学元件，特别是计算全息光学元件，是一种位相型的衍射光学元件。衍射光学元件的使用可以追溯到1987年，L.RayLeigh首先使用一种菲涅耳波带板的元件，以后出现的衍射光栅和菲涅耳透镜也是衍射光学元件。由于这些衍射元件的实际用途有限，所以很久得不到重用。 20世纪40年代末英国科学家丹尼斯加伯(Dennis Gabor)提出全息的概念，由于没有良好特性的干涉光源，所以迟迟没有大的发展。1966年，B.R.Brown等人制作了计算全息图，1968年L.B.Lesem等人又制作了相息图(Kinoform)。计算全息元件效率低，且需离轴再现，相息图虽然同轴再现，但其元件的加工工艺却长期未能解决，因此研究进展缓慢，实用受限。20世纪80年代美国麻省理工学院林肯实验室Veldlcamp首先提出二元光学的概念。 二元光学的概念一经提出，就得到了许多发达国家的重视而迅速发展起来；因为二元光学技术同时可以解决衍射元件的效率和加工问题是光学与微电子学相互渗透与交叉的前沿学科。 二元光学对现代光学技术的影响随着系统轻量化、小型化的要求，需要用重量轻、尺寸小的光学器件来替代。因此研究二元光学元件在光学领域具有较好的发展。 60年代末期，Lesem等人提出了相息图的方法。相息图将光波的位相信息以表面浮雕形式记录在胶片上。它象菲涅耳透镜那样，通过改变自身的光学厚度去改变照射光波的位相或波前分布。相息图的突出特点是衍射效率可以达到100%。时隔不久出现了相息透镜。从那时起，人们开展了各种表面浮雕结构制造技术的尝试。20世纪80年代由于计算机辅助设计、超大规模集成电路光刻和干蚀法刻蚀工艺等方面工作取得的进展，为衍射光学的发展提供了技术支撑，也激起了科学家对衍射光学的研究兴趣。美国麻省理工学院林肯实验室采用二元光刻掩膜技术用一系列的台阶形状来近似所要求的表面轮廓，首先制造出来表面质量很高，成像性能良好的衍射成像光学元件，称之为二元光学元件。这样，二元光学这个术语受到了光学领域及相关领域的研究人员和工程技术人员的高度重视。这标志着衍射成像光学元件的制造技术基本上进入了成熟阶段。 1.2 国内外研究现状 80年代中期，美国MIT林肯实验室威尔得坎普（Veldkamp）领导的研究组在设计新型传感系统中，率先提出“二元光学”的概念，他当时描述到：现在光学有一个分支，它几乎完全不同于传统制作方式，这就是衍射光学，其光学元件的表面带有浮雕结构；由于使用了本来是制作集成电路的生产方法，所用的掩膜是二元的，且掩膜用二元编码形式进行分层，故引用二元光学的概念。 微光学特别是二元光学的发展，使光学技术得以创新，促使传统光学仪器发生根本性的变革。它们固有的特性和功能，推动传统光学实现微型化、阵列化和集成化，把宏观的光学元件转化为微光学元件和具有处理功能的集成光学组件，并使集成光学元件的大量应用将成为可能。鉴于光学和二元光学的重要作用，故受到美、日、德等发达国家的高度重视而大力开发。 林肯实验室把二元光学称之为“90年代的光学技术”是振兴与发展美国光学工业的希望。该实验室经15年的研制，已推出称为二元光学器件的微透镜，这种新产品应用范围很广，从隐形眼镜到高分辨率电视、激光打印机等美国Bellcore公司已制成微透镜列阵(二元透镜)相当于菲涅耳带板，这种微镜列阵在光学信息处理、光计算、激光扫描和激光束波面像差修正