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椭偏仪测量薄膜厚度和折射率 近代科学技术屮对各种薄膜的研究和应用LI益广泛。因此，能够更加迅速和精确地测 量薄膜的光学参数例如厚度和折射率己变得非常迫切。 在实际工作中可以利用各种传统的方法来测定薄膜的光学参数，如布儒斯特介法测介 质膜的折射率，干涉法测膜。另外，还有称重法、x射线法、电容法、椭偏法等等。其中， 椭関偏振测量（椭偏术）是研究两媒质界面或薄膜中发生的现彖及其特性的一种光学方法, 其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振变换。因为椭偏法具有-测 量精度高，灵敏度高，非破坏性等优点，己广泛用于各种薄膜的光学参数测量，如半导体、 光学掩膜、圆晶、金属、介电薄膜、玻璃（或镀膜）、激光反射镜、大而积光学膜、有机薄 膜等，也町用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程的实时监测等测量。 实验目的 了解椭圆偏振测量的基本原理,并掌握-些偏振光学实验技术。 实验原理 光是一种电磁波，是横波。电场强度E、磁场强度H和光的传播方向构成一个右旋的 正交三矢族。光矢量存在着各种方位值。与光的强度、频率、位相等参最一样，偏振态也是 光的基本量之一。 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后，光线的反射和折射在一般情况下会同吋存 在的。通常，设介质层为4、血、心，pi为入射角，那么在1、2介质交界而和2、3介质交 界面会产生反射光和折射光的多光束干涉。 这里我们用25表示