光学玻璃的清洗工艺及烧蚀问题解决对策.pdfVIP

光学玻璃的清洗工艺 及烧蚀问题解决对策 刘大川 广州山之风化学品有限公司 摘 要： 本文针对H前田内光学玻璃加l：行业中的清洗丁艺进行分析，重点阐述了不同类型清洗设备和清 洗剂的特点；并对光学玻璃加L过程中最常见的烧蚀(腐蚀)问题提出了相麻的清洗对策。 关键词：光学玻璃 清洗T艺 设备 清洗剂 烧蚀 过碱性清洗 一 前言 随着数码相机等高科技产品在市场上的普及，近几年来光学镜片加T行业也得到了迅猛发展。清洗操作是 髅“’ …强 光学镜片加上乍产过程中蕈要的一环。目前国内光学玻璃加工厂家常规采用的透镜加工工艺大致如下：玻璃毛 ’54 坯一切削一研磨抛光一清洗一求芯(磨边)一清洗一镀膜一清洗一接合一涂墨。本文主要针对其中的镜片清洗工 *·二t 芦 艺及其配合使用的清洗剂的小I司特点，进行了论述；并对光学玻璃加工过程中最常见的烧蚀(腐蚀)问题提 譬l 出了相应的清洗对策。 橐曩 装术 二 光学玻璃的清洗工艺 备国 展际 览论 会坛 1．研磨后的清洗 论 文 研磨是光学玻璃生产中决定其加T效率和表面质量(外观和精度)的重要[序。研磨T序中的卡要污染物为 集 研磨粉和沥青，少数食qk的加上过程巾会自．漆片。其中研磨粉的型号各异， ‘般足以-二氧化铈为主的碱金属氧化 物。根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作HJ的，以防 止抛光完的镜嘶被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种：一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使 用半水基清洗剂。 (1)有机溶剂清洗采用的清洗流程如下： 有机溶剂清洗剂(超声波)一水基清洗剂(超声波)一市水漂洗一纯水漂洗一IPA(异丙醇)脱水一IPA慢 拉干燥。 ． 有机溶剂清洗剂的主要用途是清洗沥青及漆片。以前的溶剂清洗剂多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯 乙烷属ODS(消耗臭氧层物质)产品，日前处于强制淘汰阶段；而长期使用t氯乙烯易导致职业病，而只．由于一i氯 乙烯很不稳定，容易水解呈酸性，因此会腐蚀镜片及设备。对此，困内的清洗剂厂家研制生产了非ODS溶剂型系 列清洗剂，可用于清洗光学玻璃；并且该系列产品具备不同的物化指标，叮有效满足不IHJ设备及T艺条件的要求。 比如在少数食业的生产过程中，镜片表面有一层很难处理的漆片，爨求使用具备特殊溶解一陀的有机溶剂：部分企 qk的清洗设备的溶剂清洗槽冷凝管较少，自由程很短，要求使用挥发较慢的有机溶剂；另‘部分食业则相反，要 求使用挥发较快的有机溶剂等。 水基清洗剂的卡要用途是清洗研磨粉。由丁．研磨粉是碱金属氧化物，溶剂对其清洗能力很弱，所以镜片加 工过程中产生的研磨粉基本I：是在水展清洗单元内除去的，故向对水基清洗剂提…r极高的要求。以前由丁二园内 的光学玻璃专用水基清洗剂品种较少，很多外资氽qk都选用进门的清洗剂。而日前凼内已自．公司开发…光学玻璃 清洗剂，并成功地应用在困内数家大型光学玻璃生产厂，清洗效果完伞可以取代进r】产品，在腐蚀性(防腐性能) 等指标上更是优『．进口产品。 对‘，：IPA慢托fj燥，需要说明的一点是，某些种类的镜片干燥后容易产生水印，这种现象一方面与IPA的 纯度及空气湿度有关，另一方面与清洗设备有较大的关系，尤其足舣臂Lf燥的效果明显小如单臂干燥的好，需 要设备厂家及用户注意此点。 (2)半水基清洗采J}j的清洗流程如下： 半水幕清