硬质合金涂层技术.ppt

* * TiCN： 属通用的碳氮化物涂层（灰色），适用于： 铣削和攻丝 冲压和成型 * * CBC(DLC) ： 类金刚石涂层-硬润滑层 * * cVlc?： cVlc?=TiCN+CBC 由纳米梯度结构组成的双涂层，适用于： 粘性材料的切削，避免刃口刀瘤的产生 要求有最佳脱模效果的成型 攻丝 * * CROMVlc?： CROMVlc?=CrN+CBC 由纳米梯度结构组成的双涂层，适用于： 避免刀瘤产生 铝和钛合金的加工 要求有最佳脱模效果的成型 * * nACo?： PLATIT纳米涂层，nACo?=(nc-AlTiN)/(aSi3N4) 超高的纳米硬度 超高的热阻 普通加工条件下呈现高性能 最外层也可染上蓝色 * * nACVlc?： 由纳米梯度组成的PLATIT双层纳米晶涂层。 nACVlC?=(nc-AlCrN/a-Si3N4)+CBC 高硬度、高热阻、耐刮伤 涂层厚度可以增大 用于高速钢切削高合金材料和钛材时特别优秀 用作高强度的机械零件涂层 * * 2.7.3应用范围 * * 概述 顾名思义，物理气相沉积就是用物理方法将所需材料蒸发并沉积在基体表面上形成涂层的工艺。 根据不同的固体材料的原子结构，工艺技术可被划分为两类： 一类以蒸发为基础（气相沉积）； 一类则采用阴极溅射（阴极溅镀）。 图6.4-31是这些主要工艺技术的分类图。 * * 图6.4-31 PVD涂层工艺分类图 * * 2.3涂层的形成 采用简单的反应气相沉积工艺无法制得TiN和TiC涂层，因为中性气体粒子的反应能力太低。为了生产TiN和其它的氮化物或碳化物的硬质材料涂层，重要的是要将部分工艺气体转化成等离子态，从而强化反应能力。气体的离子化程度越高，气体压力就可以越低 * * 2.4电弧蒸发沉积 该涂层设备具有一个或多个钛靶。该系统中的压力在0.1－1Pa的范围内。电弧的起弧借助一个高压脉冲辅助电极产生。电弧由一个强直流电源（15－50V）供给。阴极辉点的直径只有1－3μm，这样产生的电流密度高达109A/cm2。这促使阴极材料立即汽化。电弧辉点以很高的速度（约100m/sec）和自由的方式在阴极表面上移动（所谓的“无序”电弧，图6.4-31）。阳极不是局部的，这就是说整个真空室都起阳极作用。 * * 图6.4-36 电弧蒸发涂层设备的原理图 * * 图6.4-37 电弧蒸发涂层设备中阴极辉点的轨迹 左：不受控电弧 右：受控电弧 * * 图6.4-38 电弧蒸发PVD涂层设备外貌 * * 2.5阴极溅射 直接溅射法： 该法实际上可以将所有的材料用作阴极。阴极材料溅射到基体上时不会发生任何形式的分解，如由熔点相差很大的金属炼成的合金（如TiAl、Al2O3）。该法涂层速度可达3μm/h。借助于额外的氩气（压力约为10-2mbar）和采用相应的靶材，该法就能直接溅射硬质材料。 * * 2.5阴极溅射 反应溅射法： 用硬质化合物的金属组元作靶材，如Ti，然后将反应气体通人溅射气体（如Ar+N2）中。因为溅射出来的原子比气化出来的处于一种更激活的状态，所以即使在较低的温度下该法也能获得良好的粘结。 直到磁控阴极溅射技术（通过磁场作用电子被迫在圆形轨道上运行，从而离子化程度提高）开发出来后，涂层速度才有了明显的提高（3－10μm/h）。 * * 图6.4-39 阴极溅射装置的原理图 * * 2.6PVD涂层硬质合金的应用 图6.4-34 CVD和PVD涂层刀片铣削性能对比 图6.4-35 CVD和PVD的TiN涂层刀片加工不同材料时的性能对比 图6.4-36 PCVD和PVD涂层刀片的使用寿命对比 * * 图6.4-40 CVD和PVD涂层刀片铣削性能的对比 被加工材料：42CrMo4V 切削速度：200m/min 进给：0.2mm/齿 切深：2mm 破损形式：CVD刀片崩刃 PVD刀片磨损 * * 图6.4-41 CVD和PVD的TiN涂层刀片铣削效率对比 基体：TTR(P40) 刀片型号：SPAN1203EDR 切削参数：Vc=200mm,aP=3mm 涂层：3μTiN fz=0.2mm * * 2.6PVD涂层硬质合金的应用 当加工易加工工件材料时，如C45N钢，与PVD刀片相比CVD-TiN涂层刀片的切削寿命较长。反之，当工件材料是低合金钢时，如42CrMo4V钢，刀具材料的韧性变得头等重要。这种情况下，PVD涂层刀片的切削长度是CVD涂层刀片的两倍。 * *