光学邻近校正改善亚微米光刻图形质量.docVIP

上　 平均 线 宽偏 差 由校 正 前 的 ７ ｎ 降低 到 ２ ｎ 　 　ｍ ｌ ７ ｍ。 这 一 结 果表 明 ，灰 阶 编 码 掩 模 在 光 学 邻 近 校 正 方　 面 有 相 当 的潜 力 。 　 效 果 。尽 管 该 方 法 最 终 也 是 对 光 场 分 布 进 行 合 理　 优 化 ，但 基 本 上 是 利 用 经 验 结 果 来 预 畸 变 掩 模 ， 　 没 有考 虑 光 强 曲线 的斜 率 对 光刻 图形 质量 的影响 。 　 因此 ，一 个 用 偏 置 法 设 计 的掩 模 ， 在 离 焦 的情况　 下 其校 正 效 果 受 到限 制　 ｇ ｌ 。相 比之 下 ， 亚分 辨 辅　 助 线 条 的设 计 思 想 更 为 合 理 ，特 别 是 有 助 于 改 善　 离 焦 曝 光 时 成 像 的质 量 。灰 阶 掩 模 和 编 码 灰 阶掩　 模 的 优 点在 于 可 实 现 邻 近 效 应 的精 细 校 正 ，设 计　 也 较 为 灵 活 ，并 可 具 有 辅 助 线 条和 偏 置 方 法 共 同 　 的优 点　 这 类 掩 模 的加 工 时间 相 对 要 长 一 些 ， 因　 此 ，在 需精 细 邻 近 效 应 校 正 时 才 予 以 使 用 。 　 灰 阶编 码 掩模 可 通 过现 有 微 细 加工 手 段 制 作 ， 　 其 加 工 比相 移 掩