第四章_薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)-_溅射法.pptVIP

4.1 辉光放电与等离子体 4.2 物质的溅射现象 4.3 溅射沉积技术 第四章 薄膜制备技术-溅射法 溅射镀膜的特点 （1）对于任何待镀材料，只要能作成靶材，就可实 现溅射 （2）溅射所获得的薄膜与基片结合较好 （3）溅射所获得的薄膜纯度高，致密性好 （4）溅射工艺可重复性好，可以在大面积衬底上获 得厚度均匀的薄膜 4.1 辉光放电和等离子体 等离子体 等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体，包含中性原子或分子、原子团、带电离子和自由电子。 作用： 1、提供发生在衬底表面的气体反应所需要的大 部分能量 2、通过等离子刻蚀选择性地去处金属 4.1 辉光放电和等离子体 ?产生辉光放电 通过混合气体中加直流电压、或射频电压，混合气体中的电子被电场加速，穿过混合气体，与气体原子或分子碰撞并激发他们，受激的原子、或离子返回其最低能级时，以发射光（或声子）的形式将能量释放出来。 不同气体对应不同的发光颜色。 4.1 辉光放电和等离子体 入射离子能量的影响 只有入射离子能量超过一定阈值以后，才能从被溅射物质表面溅射出离子，阈值能量与入射离子的种类关系不大，与被溅射物质的升华热有一定比例关系 随入射离子能量的增加，溅射产额先增加，然后处于平缓（10Kev)，离子能量继续增加