CN103355074A日光温室葡萄草莓立体栽培方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN103355074A* *CN103355074A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 103355074 A (10)申请公布号 CN 103355074 A (43)申请公布日 2013.10.23 (21)申请号 201310215729.6 (22)申请日 2013.06.03 (71)申请人 北京农业职业学院 地址 102442 北京市房山区长阳镇稻田南里 5 号 (72)发明人 程建军 吴晓云 邓志峰 高照全 (74)专利代理机构 北京永创新实专利事务所 11121 代理人 姜荣丽 (51)Int.Cl. A01G 1/00 (2006.01) A01G 17/00 (2006.01) A01G 7/06 (2006.01) 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 权利要求书1 页 说明书2 页 附图1 页 (54)发明名称 日光温室葡萄草莓立体栽培方法 (57)摘要 本发明公开了一种日光温室葡萄草莓立体栽 培方法，属于立体栽培技术领域。所述立体栽培方 法中，葡萄的架式为小棚架，采用单蔓整枝栽培； 葡萄定植在温室南侧，距温室南端100 厘米，草莓 定植于葡萄棚架架面下，距葡萄栽培区50～80厘 米。本发明通过将温室葡萄栽培技术与温室草莓 栽培技术进行整合，充分利用了日光温室的地面 及上层空间，可以使日光温室的土地当量比达到 1.84，产品产出时间达到210 天，较原有的日光温 室葡萄栽培延长了150 天；较原有的日光温室草 莓栽培延长了60 天。本发明可以在日光温室葡萄 和草莓栽培区推广应用，同时对于促进温室土地、 光能、水源综合利用具有极大的贡献。 A A 4 4 7 7 0 0 5 5 5 5 3 3 3 3 0 0 1 1 N N C C CN 103355074 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1. 一种日光温室葡萄草莓立体栽培方法，其特征在于：葡萄的架式为小棚架，采用单 蔓整枝栽培；葡萄定植在温室南侧，距温室南端100 厘米，株距为100 ～150 厘米，棚架高度 为2 ～2.5 米；草莓定植于葡萄棚架架面下，距葡萄栽培区50 ～80 厘米；采用高畦宽垄双 行栽培，畦高40 厘米，畦底宽60 ～70 厘米，畦面宽40 ～50 厘米，畦沟宽为30 厘米；株距 依品种而定，行距为20 ～30 厘米；每亩定植草莓6000 ～8000 株。 2. 根据权利要求1 所述的一种日光温室葡萄草莓立体栽培方法，其特征在于：葡萄定 植距温室南端100 厘米，株距为150 厘米，棚架高度为2 米；草莓定植距葡萄栽培区50 厘 米；采用高畦宽垄双行栽培，畦高40 厘米，畦底宽70 厘米，畦面宽50 厘米，畦沟宽为30 厘 米；株距为20 厘米，行距为30 厘米；每亩定植草莓7200 株。 3. 根据权利要求1 所述的一种日光温室葡萄草莓立体栽培方法，其特征在于：在9 月 初，对葡萄已衰老的叶面进行摘除，摘除量为全叶量的50%，11 月初对葡萄进行修剪，每个 结果母枝留6 ～8 个芽；此后的工作转向草莓管理；第二年4 月后葡萄枝蔓开始快速生长， 此时将草莓全部拔除，此后，全部工作转向葡萄的管理。