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结合案例分析纳米制造与普通制造的 主要差异 指导教师：雒建斌院士 摘要?：开始交代了普通制造及纳米制造的历史背景，分析了普 通制造的局限性以及纳米制造的两种方法，通过制造超光滑表面 的案例分析了普通制造与纳米制造的主要差异，最后展望了新一 代制造技术的前景。 关键词：普通制造；纳米制造；超光滑表面制造；化学机械抛光 一?纳米制造与普通制造的综述 普通制造 制造是利用原材料生产大量产品的过程。制造是个多个学科交叉 的生产活动，制造包括了运用已知的原理、方法和技术，设计和 开发物品或系统的生产。 制造主要经历了四个发展历程?精密工程?超精密工程?微加工?纳 米制造。本文将主要探讨纳米制造与普通制造间的差异。 纳米制造 在了解纳米制造之前，先了解一下纳米技术。 纳米技术的历史，1959年美国科学家Richard?P?Feynman在美国 加州理工学院发表了有关纳米意义的著名演说。1974年日本科学 家Taniguchi提出Nanotechnology一词。1981年德国科学家H?Gle iter?提出Nanostructure?of?Solids概念。1990年7月在美国召 开了国际纳米科学技术会议标志着纳米技术的正式确立。 纳米技术的定义，通常来说有如下主流性质，一至少有1到100nm 的尺度，二操作过程能在分子水平上操作，三分子水平上的操作 能被合成为更大尺度的结构。 纳米技术也被认为是21世纪最重要的技术之一，纳米技术不仅仅 代表着人类能够进行纳米尺度的操作，也意味着人类进入了原子 层次的微观世界。 纳米制造的定义，对纳米尺度的材料进行加工生产，或纳米尺度 下自下而上生产器件，或纳米尺度下自上而下实现超精密的器件 加工。 纳米制造的方法，通常纳米制造或纳米组装有两种方法，自上而 下（Top-Down）高精度加工和自下而上（Bottom-Up）纳米组装 的过程。自上而下主要是由芯片等电子产品的刻蚀演化而来，在 微电子，计算机等工业上起到了重要的作用，但是加工精度也接 近与产品的极限。自下而上目前则还有巨大的发展前景，主要应 用生物化学的操作方法，在医学，化学方面也正在起到越来越来 重要的作用，同时纳米组装通过控制原子来形成纳米结构，是一 种纳米操作。 二?普通制造的局限性 普通制造提高精度的方法与局限性 母性原则，母性原则要求加工工件的精度大于工件精度。 母性原则的局限性，母机床的误差会遗传给工件，加工中的振动， 热变形，应力等等问题都会降低精度，很显然这在纳米尺度上是 基本没有可能做到的。 创新性原则，在加工中采用误差在线测量和补偿等方法。 创新型原则的局限性，工件的精度会有所提高，但是在母机床很 难达到纳米尺度的情况下，起到的作用很有限甚至可以忽略不计。 微量切削原则，精加工高精度工件时，刀具的尺度要足够小。 微量切削原则的局限性，想要达到纳米尺度的工件，需要纳米尺 度刀具，显然在普通制造是不可能的。 稳定加工原则，精加工高精度工件时，加工工件要尽可能稳定。 稳定加工原则的局限性，普通制造必然产生振动，热变形，应力， 再怎么稳定，也达不到纳米尺度。 从上述方法可知，依靠普通制造，完全不能满足纳米制造的要求， 纳米制造和普通制造的差异在于方法的不同，普通制造只是传统 的精加工，而纳米制造则是自上而下或自下而上的新型加工方法。 三?自上而下的方法 自上而下，对块体材料进行切割处理，得到所需的材料和结构。 尺度取决于加工工件。 1定型机械纳米加工，强化刀具的精度来保证工件的外形尺寸精 度。目前有金刚石切削、微米铣削、微纳米磨削等方法。 金刚石刀具超精密切削技术，利用数控方法直接控制加工轮廓和 表面粗糙度。采用恒温油淋浴系统，消除加工中的热变形。 2磨粒纳米加工，包括研磨技术、抛光技术和磨削技术。研磨加 工中的一种主要方法，化学机械抛光技术是目前应用非常好的技 术。 化学机械抛光技术（Chemical?Mechanical?Polishing,?CMP） 抛光利用固相反应抛光原理的方法。磨粒与抛光液在一起，当工 件与磨粒接触时，它们的摩擦导致产生高温高压，在短时间就产 生了固相反应，由摩擦力去除了反应物，实现了去除抛光。 CMP技术加工效率高，表面粗糙度低，可用于硅集成电路以及高 性能集成电路的制造。 3光刻加工 在半导体器件和集成电路制造中，用感光性树脂材料（光刻胶） 在控制光照的条件下，短时间内发生化学反应，在硅片等材料上 获得一定几何图形的抗蚀保护层。 最近在提高分辨率的传统光学曝光之外，有X射线、电子束和极 端远紫外线光刻技术等新型技术的兴起。 四?自下而上的方法 自下而上，自组装技术，以分子尺度材料为组成部分构造纳米尺 度装置的方法。 1纳米颗粒、碳纳米管和纳米丝自组装，纳米颗粒自动形成单层、 薄膜和超晶格中具有特定大小