薄膜的物理气相沉积ⅰ——热蒸发.pptxVIP

特点：(1)需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉 积过程的源物质；(2)源物质要经过物理过程进入气相；(3)需要相对较低的气体压力环境；气相分子的运动路径近似为一条直线；气相分子在衬底上的沉积几率接近100%。 (4)在气相中及衬底表面并不发生化学反应。薄膜的物理气相沉积基本PVD方法： 蒸发法（10-3 Pa）（真空度较高，沉积速度较高，薄膜纯度较高，薄膜与基片结合较差） 溅射法（10-2 ~ 10Pa）（多元合金薄膜化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好） 离子镀、反应蒸发沉积、离子束辅助沉积等薄膜的物理气相沉积2.1 物质的热蒸发2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度2.3 真空蒸发装置薄膜的物理气相沉积2.1 物质的热蒸发工作原理： 在真空环境下，给待蒸发物质提供足够的热量以获得蒸发所必需的蒸气压。在适当的温度下，蒸发粒子在基片上凝结，即可实现真空蒸发沉积。步骤：①蒸发源材料由凝聚相转变成气相； ②在蒸发源与基片之间蒸发粒子的输运； ③蒸发粒子到达基片后凝结、成核、长大、 成膜。薄膜的物理气相沉积组成部分：真空室；蒸发源及蒸发加热装置；衬底放置及加热装置。薄膜的物理气相沉积真空蒸发镀膜机薄膜的物理气相沉积2.1.1 元素的蒸发速率平衡蒸气压：一定温度下，蒸发气体与凝聚相平衡过程中所呈现的压力。 当环境中元素分压降低到平衡蒸气压之下时，就发生元素的净蒸发。 薄膜的