硅晶片专用清洗剂.docVIP

PW PWC-801 硅晶片专用清洗剂 经 济 有 效 使 用 方 便 经 济 有 效 使 用 方 便 ，对环境无公害 、铁锈、水泥污物、水藻、矿物质和石灰质等污物 本品是一种硅晶片（多晶、单晶）专用清洗剂，可有效清除线切割、研磨等加工后的污垢 本品是一种硅晶片（多晶、单晶）专用清洗剂，可有效清除线切割、研磨等加工后的污垢； 是超声波清洗的最佳选择； 环保型产品，符合RoHS指令，通过了SGS检测。 产品特点： 产品特点： 浓缩型产品，低浓度稀释使用，平均清洗成本低； 清洗能力强，通过螯合、络合、剥离等物理和化学作用，使硅晶片表面的污物杂质去除干净； 清洗效果好，清洗后硅晶片表面色泽一致，无花斑； 对硅晶片安全无腐蚀； 易于漂洗； 适用于刷洗、浸泡、超声波等清洗方式，是进口及国产清洗机理想的配套产品； 性能稳定，在正常贮存条件下，有效期内质量不会变化； 运输、储存安全方便。 ADD：Rm. 701, Bd. A, ADD：Rm. 701, Bd. A, Xing No.123 Lianshan Street shahekou District Dalian(116023) China Tel.：(86)-4114 Fax：(86)-411地址：中国辽宁大连市连山街123号星海高科技中心A座701室 (116023) 网址： 邮件：nchhy@ 华阳恩赛有限公司（中美合资） NCH HUAYANG Ltd. 通过ISO9001:2000质量体系认证 PWC-801 PWC-801 硅晶片专用清洗剂 应 用 领 域 应 用 领 域 适用于硅晶片（包括单晶硅、多晶硅）线切割、研磨等加工后的清洗。 理 化 参 数 外 观 ：蓝色透明液体 密 度 ：1.045 沸 点 ：100 PH值（2%）：12.5 使用方法： 线切割后的硅晶片先进行清水喷淋以及热水除胶等预处理； 将预处理后的硅晶片放入清洗机中，首先是两槽清水常温鼓泡清洗，然后进入二槽配有5%-15%的PWC-801清洗剂的超声波清洗机中，加温至50-80℃，清洗3-10min，随即采用二槽纯水漂洗 洗净后的硅晶片按生产工艺要求实施离心烘干、检验和包装等后续工序； 如果PWC-801清洗液呈疲劳时，可适当补充一定量的PWC-801清洗剂； 清洗剂槽建议配有过滤装置以延长槽液的使用寿命，减少颗粒污染，避免划痕提高清洗效果； 循环过滤装置建议采用下进水，避免液体运动产生大量泡沫； 用户可根据硅晶片污物残留量、污垢组成、清洁度要求、清洗方式、干燥方式等具体情况在线试验，以确定最佳的工艺参数。 注意事项： 避免清洗液长时间直接接触皮肤； 如产品溅入眼睛，立即用大量清水冲洗，严重不适时求助医生； 如误饮入口时立即漱口、休息，大量饮水，给予医疗护理，如严重不适求助医生； 避免儿童直接接触、甚至误服； 少量泄漏可使用拖布水洗，大量泄漏时可使用沙土吸收。 包装及贮存： 包装：净重量25公斤、200公斤塑料 贮存：紧盖包装封口，置于阴凉处储存；防止泄漏，并避免儿童接触。 售后与服务： 应用户的要求可提供现场的技术服务与指导。 在产品有效期内，如接到使用方技术服务请求后48小时，将用电话、传真、Email提供解决方案或派人前往协助解决。