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- 2020-03-22 发布于广东
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* 谱图解析与结构(3) 化合物 C10H12O2,推断结构 δ7.3 δ 5.21 δ1.2 δ2.3 5H 2H 2H 3H * 结构(3)确定过程 化合物 C10H12O2, U =(2+2x10-12)/2=5 a. δ 2.32和δ 1.2—CH2CH3相互偶合峰 b. δ 7.3芳环上氢,单峰烷基单取代 c. δ 5.21—CH2上氢,低场与电负性基团相连 哪个正确? 正确:B 为什么? * 谱图解析与结构(4) 化合物 C8H8O2,推断其结构 9 8 7 6 5 4 3 10 * 结构(4)确定过程 化合物 C8H8O2, U=(2+8x2-8)/2=5 δ =7-8芳环上氢,四个峰对位取代 正确结构: δ = 9.87—醛基上氢, δ = 3.87 CH3上氢,低场移动,与电负性强的元素相连: —O—CH3 * * (3)氢键效应 形成氢键后1H核屏蔽作用减少,氢键属于去屏蔽效应。 * 4. 各种质子的大致化学位移 * 0.9 1.3 1.4 2.1 2.4 3.3~4 4.7~6 6.5~8 9~10 9~12 * 一、 自旋偶合与自旋分裂 每类氢核不总表现为单峰,有时多重峰。 原因:相邻两个氢核之间的自旋偶合(自旋干扰)。 第四节 自旋偶合和自旋体系 * [自旋偶合]:核自旋产生的核磁矩间的相互干扰称为自旋--自旋偶合,简称自旋偶合。 [自旋分
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