扩散方阻异常.docVIP

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扩散异常原因排查 方阻异常处理方法: 如果方块电阻不在规定范围内,轻微超出范围要求重新扩散,严重超出要求重新制绒,方阻偏低或,色斑,偏磷酸等由硅片表面问题引起的玷污需去PSG后从新制绒。 导致方阻异常的可能原因: 气体流量不稳定(大氮,小氮,氧气等),温度偏高或偏低,源瓶内三氯氧磷不足,恒温槽温度偏高,管内压力不稳定,石英管或石英舟饱和不够,炉门没关紧,管口抽风太大或太小。我们现在是串级控温,所以不需要拉炉管恒温。 检查方法: 确保设备没有问题后再进行工艺调整。 检查内容:确认是否用错工艺,工艺过程是否完整进行后,检查工艺气体流量,温度及其升温过程,管内压力,源剩余量,恒温槽温度。 几种异常表现及工艺调整方法: 1.如果扩散不到,增大N2的携带流量; 2.方块电阻偏高,加大源量,延长扩散时间,通入足够量的小N2和O2,一般偏差几个欧姆通过温度调整。 4.方块电阻偏低,减少扩散温度,减少扩散时间。 5.扩散后单片上电阻不均匀,调整扩散气流量。 注意事项: 平时要保证传递窗的及时关闭,石英舟需要定期清洗,清洗后的石英舟需作饱和工艺,炉门要及时关闭,不允许裸手接触石英舟和硅片,避免炉管和石英舟被污染,保证扩散间的工艺卫生。 以上所述是基于四探针测试方阻没有问题,片源没有出现异常的情况下,也许不完全正确,仅供作为实践时的参考。

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