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Protecting Groups
in Organic Synthesis
选择保护基的原则：
(1) 保护基的供应来源，包括经济程度。
(2) 保护基团必须能容易进行保护，且保护效率高。
(3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性，
如保护中忌讳产生新的手性中心。
(4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过
程。
(5) 保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。
(6) 保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。
(7) 去保护过程的副产物和产物能容易被分离。
呼之即来，挥之即去。
切莫请神容易，送神难。
羟基的保护基
1). 酯类保护基
t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.
OH
OH
HO O HO PivCl (1eq)
O
OH
Py-CH2Cl2
0-25 oC
90%
Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453
酯类保护基的除去(cleavage)
碱性条件下水解， 水解能力：
t-BuCO(Piv) PhCO MeCO ClCH2CO
常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al
去除Piv一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL,
KBHEt3
OTBDMS OTBDMS
TBDMSO O TBDMSO OH
DIBAL(2.5eq) O
CH2Cl2, -78
oC
95%
Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453
ClCH2CO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液，
NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。
O
OBn OBn
Cl OBn OBn
HO
O
AcO
O
O
OBn OBn
NH2NH2 (15eq)
HOAc-HOMe
rt, 12 h
O
AcO OBn OBn
O
O
O
AcHN
AcHN
OBn
OBn
74%
Cook, A. F.; Maichuk, D. T. J. Org. Chem., 1970, 35, 1940.
OR
OH
AcO
AcO
O
O
S
RO
O O
O
O
O
H2NHN SH
Dioxane, i-Pr2NEt
HO
O O
O
O
O
O
O Ph O
Ph O
AcO
AcO
OR OH
R = ClCH2CO 40%
Smith, A.B.; Hale, K. J.; Vaccaro, H. A.; Rivero, R. A. J. Am. Chem. Soc, 1991, 113, 2112.
2). 硅醚保护基
硅醚保护基主要有：
Me3Si (trimethylsilyl, TMS); Et3Si (triethylsilyl, TES);
t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS)
i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS)
t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS)
酸水解相对稳定性:
TMS(1) TES(64) TBDMS(20,000) TIPS(700,000) TBDPS (5,000,000)
碱水解相对稳定性:
TMS(1) TES(50) TBDMS = TBDPS (20,000) TIPS(100,000)
硅醚保护基的除去： （F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol）
通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN
TMS ether：
TMSCl or TMSOTf in pyridine, NEt3, I-Pr2NEt, imidazole, DBU
O
OH
CO2Me
O
OTMS
CO2Me
H
COOBu-t
Me3SiCl-Im
100 oC, 90 min.
O
H
O
OTBS
O O
OTBS
O O
100%
Kerwin, S. M.; Paul, A. G.; Heathcock, C. H. J. Org. Chem., 1987, 52, 1686
TES ether：
TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6-dimethylpyridine
OTES O
OH O
TESOTf (1.1eq)
H
H
Py, MeCN,
-50 oC
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