薄膜制备技术part3真空蒸镀i基本方法.doc

第三章：真空蒸镀 第三章：真空蒸镀 真空蒸镀 薄膜沉积中的共性问题：超净室 镀膜中的气泡是影响膜的特性和附着强度的最大障碍 之一，灰尘是产生气泡的主要原因。。 超净室＋超净真空室 超净真空室：除尘，抽气时防止产生湍流。 薄膜沉积中的共性问题：超净室 超净室，不能产生灰尘： 1、油封机械泵所排出的气体要接到室外； 2、用无皮带的直连泵或将泵装在室外； 3、用塑料纸张或使用不产生灰尘的纸； 4、不能用铅笔； 百级超净室：测试一立方英尺/分钟，0.5 微米的尘小于100个 人体污染：呼出气体中颗粒的污染距离0.6- 1m，打喷嚏的污染距离4~5m。主要是含有 矿物质和盐如钠，钙，铁，镁，氯，铝， 硫，钾，磷。 大气中的尘埃粒子及其大小范围 芯片特征尺寸和沾污控制 物理气相沉积 定义： 物理气相沉积(Physical vapor deposition） 是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到 粒子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物 质原子从源物质到薄膜的可控转移的过程。 物理气相沉积 特点（与CVD相比） (1) 需要使用固态的或者熔融态的物质作为蒸发源； (2) 源物质经过物理过程而进入气相； (3) 需要相对较低的气体压力环境； a) 其它气体分子对于气相分子的散射作用较小， b) 气相分子的运动路径近似为一条直线； c) 气相分子在衬底上的沉积几率接近100％。 (4) 在