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单靶调试总结报告
设备靶电压过高,电流加不上
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
5
420
65
0
477
29
4.5-1
4
210
38
13
465
29
4.5-1
3
270
38
19
439
29
4.5-1
2
570
38
34.5
355
29
4.5-1
1
60
38
56
270
29
4.5-1
例1:3月24日40#镀膜机调试情况,工艺如下:
4月4日经过改造靶芯,更换磁铁后,(尺寸:11×12×25、磁场:4100~4300高斯)。电流能加上去。工艺如下:
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
5
300
56
0
439
40.2
3.5-1
4
180
38
13
444
40.2
2.5-1
3
240
38
20
430
40.2
2.5-1
2
510
38
35
372
40.2
2.5-1
1
60
38
53
300
40.2
2.7-1
例2:3月17日42#镀膜机调试情况
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
5
300
65
0
465
30
7.3-1
4
180
38
13
477
30
5.6-1
3
240
38
19
484
30
5.5-1
2
510
38
35
349
30
4.5-1
1
60
38
56
257
30
5.9-1
4月3日经过改造靶芯,更换磁铁后,(尺寸:11×12×50、磁场:4000~4200高斯),电流也能加上去。工艺如下:
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
5
300
56
0
420
35.5
6.4-1
4
180
38
13
428
35.5
4.4-1
3
240
38
19
410
35.5
4.4-1
2
510
38
35
330
35.5
4.4-1
1
60
38
56
280
35.5
4.6-1
二、由于电压高,靶底座打火严重,使用过程击穿3台镀膜机阳极冒。
例1:34#镀膜机(3.18~3.28)当时工艺如下:
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
5
420
65
0
466
30.2
6.3-1
4
180
38
10
489
30.2
3.8-1
3
240
38
18
452
30.2
3.8-1
2
540
38
35.5
355
30.2
3.8-1
1
60
38
56
265
30.2
4.5-1
此镀膜机在使用过程中,多次打火,清理靶底座无效。最终被击穿。例2:41#镀膜机也如此。当时工艺如下:
层
时间
氩
氮
电压
电流
压强
4
420
38
0
482
30
3.5-1
3
180
38
13
479
30
3.5-1
2
240
38
27
400
30
3.6-1
1
840
38
38.5
320
30
3.7-1
三、考虑到可能操作系统问题(北京的电控柜),为此,我们又做了一次对比实验,将衡阳的三靶镀膜机改用作单靶,将38#镀膜机的靶挪用到25#三靶镀膜机进行了工艺调试对比实验(衡阳的电控柜),数据如下:
1. 38#调试时工艺(调试时间2003.3.18)将靶换到25#三靶镀膜机又进行工艺对比(时间为2003.4.4)同一参数电压降低30~70V左右:
层
时间
氩气
氮气
35#镀膜机电压
更换后25#镀膜机电压
电流
1
420
65
0
455
380
30
2
180
39
13
470
401
30
3
240
39
18
449
395
30
4
510
39
36
342
310
30
5
60
39
56
260
290
30
2. 考虑可能还有其它原因,为此我们又与潍坊用衡阳的同种设备厂家的工艺进行对比,电压仍然高20~30V左右。工艺如下:
层
氩气
氮气
时间
电流
压强
(潍坊)
电压
(潍坊)
压强(25#)
电压(25#)
1
50
0
300
50
4.5-1
440
4.2-1
470
2
41
41
60
43
3.8-1
340
3.6-1
337
3
41
45
80
43
3.8-1
330
3.5-1
335
4
43
49
90
41
4.0-1
290
3.8-1
315
5
39
52
100
38
3.7-1
260
3.5-1
297~284
6
34
56
130
36
3.2-1
260
3.1-1
272~258
7
29
58
120
40
2.7-1
260
2.7-1
285
8
24
61
60
35
2.4-1
200
2.3-1
231
四、工艺和设备方面
当时,曾用低电流做工艺,但口红,且膜层不耐高温,退火后变色,镀膜时间太长,溅射速率慢。
单靶设备操作系统方面:1)优点,电流电压稳定性能好。2)缺点,①不能实现全部自动化,②设备保护措施少,报警装置无声音。③靶缺水,断水不能报警。
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