单靶调试总结.docVIP

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单靶调试总结报告 设备靶电压过高,电流加不上 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 5 420 65 0 477 29 4.5-1 4 210 38 13 465 29 4.5-1 3 270 38 19 439 29 4.5-1 2 570 38 34.5 355 29 4.5-1 1 60 38 56 270 29 4.5-1 例1:3月24日40#镀膜机调试情况,工艺如下: 4月4日经过改造靶芯,更换磁铁后,(尺寸:11×12×25、磁场:4100~4300高斯)。电流能加上去。工艺如下: 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 5 300 56 0 439 40.2 3.5-1 4 180 38 13 444 40.2 2.5-1 3 240 38 20 430 40.2 2.5-1 2 510 38 35 372 40.2 2.5-1 1 60 38 53 300 40.2 2.7-1 例2:3月17日42#镀膜机调试情况 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 5 300 65 0 465 30 7.3-1 4 180 38 13 477 30 5.6-1 3 240 38 19 484 30 5.5-1 2 510 38 35 349 30 4.5-1 1 60 38 56 257 30 5.9-1 4月3日经过改造靶芯,更换磁铁后,(尺寸:11×12×50、磁场:4000~4200高斯),电流也能加上去。工艺如下: 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 5 300 56 0 420 35.5 6.4-1 4 180 38 13 428 35.5 4.4-1 3 240 38 19 410 35.5 4.4-1 2 510 38 35 330 35.5 4.4-1 1 60 38 56 280 35.5 4.6-1 二、由于电压高,靶底座打火严重,使用过程击穿3台镀膜机阳极冒。 例1:34#镀膜机(3.18~3.28)当时工艺如下: 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 5 420 65 0 466 30.2 6.3-1 4 180 38 10 489 30.2 3.8-1 3 240 38 18 452 30.2 3.8-1 2 540 38 35.5 355 30.2 3.8-1 1 60 38 56 265 30.2 4.5-1 此镀膜机在使用过程中,多次打火,清理靶底座无效。最终被击穿。例2:41#镀膜机也如此。当时工艺如下: 层 时间 氩 氮 电压 电流 压强 4 420 38 0 482 30 3.5-1 3 180 38 13 479 30 3.5-1 2 240 38 27 400 30 3.6-1 1 840 38 38.5 320 30 3.7-1 三、考虑到可能操作系统问题(北京的电控柜),为此,我们又做了一次对比实验,将衡阳的三靶镀膜机改用作单靶,将38#镀膜机的靶挪用到25#三靶镀膜机进行了工艺调试对比实验(衡阳的电控柜),数据如下: 1. 38#调试时工艺(调试时间2003.3.18)将靶换到25#三靶镀膜机又进行工艺对比(时间为2003.4.4)同一参数电压降低30~70V左右: 层 时间 氩气 氮气 35#镀膜机电压 更换后25#镀膜机电压 电流 1 420 65 0 455 380 30 2 180 39 13 470 401 30 3 240 39 18 449 395 30 4 510 39 36 342 310 30 5 60 39 56 260 290 30 2. 考虑可能还有其它原因,为此我们又与潍坊用衡阳的同种设备厂家的工艺进行对比,电压仍然高20~30V左右。工艺如下: 层 氩气 氮气 时间 电流 压强 (潍坊) 电压 (潍坊) 压强(25#) 电压(25#) 1 50 0 300 50 4.5-1 440 4.2-1 470 2 41 41 60 43 3.8-1 340 3.6-1 337 3 41 45 80 43 3.8-1 330 3.5-1 335 4 43 49 90 41 4.0-1 290 3.8-1 315 5 39 52 100 38 3.7-1 260 3.5-1 297~284 6 34 56 130 36 3.2-1 260 3.1-1 272~258 7 29 58 120 40 2.7-1 260 2.7-1 285 8 24 61 60 35 2.4-1 200 2.3-1 231 四、工艺和设备方面 当时,曾用低电流做工艺,但口红,且膜层不耐高温,退火后变色,镀膜时间太长,溅射速率慢。 单靶设备操作系统方面:1)优点,电流电压稳定性能好。2)缺点,①不能实现全部自动化,②设备保护措施少,报警装置无声音。③靶缺水,断水不能报警。 三、建议:

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