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2019/3/21 31 离子镀的特点 ? 具有蒸发镀膜和溅射镀膜的特点 ? 膜层的附着力强。 ? 绕射性好,可镀复杂表面。 ? 沉积速率高、成膜速度快、可镀厚膜。 ? 可镀材料广泛,有利于化合物膜层的形成。 2019/3/21 32 2019/3/21 33 固体薄膜材料的制备 方 亮 重庆大学数理学院 2019 年 4 月 20 日 2019/3/21 2 主要内容 ? 薄膜的制备方法 , 含 : --- 真空技术基础 ---PVD( 真空蒸发、溅射、离子镀膜 ) ---CVD --- 溶液镀膜法 ? 典型的薄膜材料的制备 --- 金刚石薄膜 ---ZnO 薄膜 2019/3/21 3 真空技术基础 ? 真空及真空的常用单位 ? 真空的分类 ? 真空泵 ? 真空的测量 2019/3/21 4 真空及其单位 ? 真空 是指低于一个大气压的气体空间。常 用“真空度”度量。真空度越高,压强越 小。 ? 常用计量单位 : Pa, Torr, mmHg, bar, atm. 。关系如下: ? 1mmHg=133.322Pa, ? 1 Torr=atm/760=133.322Pa≈1mmHg ? 1 bar=10 5 Pa 2019/3/21 5 ? 粗真空 : 1 × 10 5 ~ 1 × 10 2 Pa 目的获得压 力差。电容器生产中的真空侵渍工艺 ? 低真空 : 1 × 10 2 ~ 1 × 10 -1 Pa 真空热处理。 ? 高真空 : 1 × 10 -1 ~ 1 × 10 -6 Pa 真空蒸发。 ? 超高真空 : 1 × 10 -6 Pa 得到纯净的气 体;获得纯净的固体表面。 真空的分类 2019/3/21 6 真空系统的组成 ? 典型的 真空系统 包括: --- 真空室 ( 待抽空的容器 ); --- 真空泵 ( 获得真空的设备 ); --- 真空计 ( 测量真空的器具 ); --- 必要的管道、阀门和其他附属设备。 2019/3/21 7 真空泵 ? 获得真空的设备。至今还没有一种泵能直接从大 气一直工作到超高真空 。因此,通常是将几种真 空泵组合使用 . ? 前级泵 :能使压力从 1 个大气压开始变小,进行排 气的泵 ? 次级泵 : 只能从较低压力抽到更低压力的真空泵。 ? 如机械泵 + 扩散泵系统,为有油系统; 吸附泵 + 溅 射离子泵 + 钛升华泵系统,为无油系统。 2019/3/21 8 主要真空泵的排气原理与范围 2019/3/21 9 真空的测量 ? 热偶真空计 :利用低压强下气体的热传导 与压强有关的原理制成的真空计。典型的 有热阻真空计和热偶真空计两种。 ? 电离真空计 :目前测量高真空的主要设备 2019/3/21 10 主要内容 ? 薄膜的制备方法 , 含 : --- 真空技术基础 ; --- PVD( 真空蒸发、溅射、离子镀膜 ) ---CVD --- 溶液镀膜法 ? 典型的薄膜材料的制备 --- 金刚石薄膜 ---ZnO 薄膜 2019/3/21 11 PVD 的含义 ? 物理气相沉积 PVD ( Physics Vapor Deposition ,主要是在真空环境下利用各种 物理手段或方法沉积薄膜。 2019/3/21 12 物理方法 (PVD) 蒸发 单源单层 单源多层 多源反应 溅射 直流:二级、三级、四级 射频 磁控 离子束 离子镀 PVD 的分类 2019/3/21 13 真空蒸镀的原理 2019/3/21 14 真空蒸发的优点 ? 设备简单、操作容易; ? 薄膜纯度高、质量好,厚度可较准确控制; ? 成膜速率快、效率高; ? 生长机理比较单纯。 2019/3/21 15 真空蒸发的缺点 ? 不容易获得结晶结构的薄膜; ? 形成的薄膜与基底之间的附着力较小; ? 工艺重复性不够好。 2019/3/21 16 真空蒸发的分类 ? 根据蒸发源 ( 热量提供方式 ) 的不同,分为 电阻法、 电子束法、高频法 等。 ? 为了蒸发低蒸汽压的物质,采用 电子束或激光 加热; ? 为了制造成分复杂或多层复合薄膜,发展了 多 源共蒸发或顺序蒸发 法
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