三枪四靶离子束溅射仪.docVIP

三枪四靶离子束溅射仪 LJ-2 Ion Beam Sputtering Facility with Three Guns and Four Targets 型号：LJ-2 主要功能：使用该装置可以制备单层膜、多层膜和多组分膜，也可以进行离子束刻蚀; 三枪四靶离子束溅射仪具有三个离子源（两个溅射源，一个辅助源）、一个可旋转的靶台（四靶位）以及一个可连续旋转的基片台。。 主要技术参数：1 加速电压：50～1200V；2 束流： 10～100mA/cm2；3 溅射气压： 4×10-2～8×10-2；4 阳极电压：50～125V；5 阴极电流： 6～15A；6 基片温度：20～800℃。 操作注意事项： 1、本设备由专人负责操作，未经允许，不得擅自动用。 2、溅射过程中，设备的分子泵、靶台、基片台需要通循环水仪保持较低的温度。 3、在产生离子束过程中，要先将阴极电流升高到足以产生热电子。 离子枪电 源 离子枪 电 源 电控部分 1 2 3 4 5 6 7 真空腔 基片台 离子枪 靶台 离子泵 闸板阀 机械泵