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7.3 大滞后过程控制系统
7.3 大滞后过程控制系统
大滞后过程的采样控制
所谓采样控制,是一种定周期的断续PID控制方
式,即控制器按周期T进行采样控制。在两次采样之
间,保持该控制信号不变,直到下一个采样控制信号
信号到来。保持的时间T与必须大于纯滞后时间τ。
0
这样重复动作,一步一步地校正被控参数的偏差值,
直至系统达到稳定状态。
这种“调一调,等一等”的方案的核心思想就是放慢控
制速度,减少控制器的过度调节。
7.3 大滞后过程控制系统
典型的大滞后过程的采样控制系统框图如图所
示。图中,采样控制器每隔采样周期T动作一次。S1、
S2表示采样器,它们同时接通或同时断开。
S 、S ,接通时,采样控制器闭环工作;S1、
1 2
S2断开时,采样控制器停止工作,输出为零,但是
上一时刻的控制值u*(t)通过保持器持续输出。
S1 S2
x (t) u(t) y (t)
采样控制器 保持器 执行器 过程
+ * u*(t)
e (t)
_
变送器
采样控制是以牺牲速度来获取稳定的控制效果,如果在采
样间隔内出现干扰,必须要等到下一次采样后才能作出反应。
其它解决方案:
7.3 大滞后过程控制系统
微分先行控制方案
D
R (s ) 1
−τ s Y (s )
k (1+ ) k g (s)e d
c T s p p
i
s 1
τ +
1
τ s +1
2
特点:
将微分作用移到反馈回路,加强微分作用,减少动态
偏差
中间反馈控制方案
7.3 大滞后过程控制系统
D
R (s ) 1
−τ s Y (s )
k (1+ ) k g (s)e d
c T s p p
i
k T s
D D
T s +1
D
特点: 适当
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