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附 录 A
(资料性附录)
常用涂布单元要求及其结构图和控制点
A.1 常用涂布单元要求
常用涂布单元要求见表 A1。
表 A.1
常用涂布单元要求
涂布单元结构
适应产品范围
涂布精度范围
适应黏度范围
适应涂量范围(湿量)
mPa·s
g/m2
微凹涂布
导电、扩散、离型、
≤± 2 %
1~ 100
1~ 40
硬化、光学膜
狭缝涂布
保护、OCA等光学膜
≤± 2%
1000~5000
2~ 100
A.2 常用涂布单元的结构图和控制点
A.2.1 微凹涂布单元
A.2.1.1 微凹涂布单元的结构见图 1。
说明:
1——导向辊 1;
2——刮刀;
3——胶槽;
4——微凹辊;
5——导向辊 2;
6——涂布基材。
图A.1 微凹涂布单元结构图
A.2.1.2 微凹涂布控制点:
a) 根据胶水特性和生产产品工艺,调节“导向辊 1”及“导向辊 2”的上下位置,获得图示 a 的不同值,以此达到涂布最佳效果;
调整“微凹辊”转速,获得与料膜相对速度的不同差异,可小范围影响涂胶厚度;
调整“微凹辊”表面刻线的数量、深度、坑型等,以此获得不同产品对涂胶厚度的不同要求。
控制料膜的张力,保证涂胶处张力稳定,才能获得均匀的涂胶厚度。
e)
由于辊子直径明显缩小,
同样线速度下的辊子转速会更高,
对于辊子的刚性、 动平
衡、跳动要有更高的要求和更严格的控制。
A.2.2
狭缝涂布单元
A.2.2.1
狭缝涂布单元的结构见图
3。
说明:
1——底板;
2——模唇;
3——真空箱;
4——底辊;
5——涂布基材;
6——垫片。
图A.2 狭缝涂布单元结构图
A.2.2.2 狭缝涂布控制点:
严格控制底板加工安装精度,要求模头唇口延长线必须过底辊中心。
严格控制模唇加工精度,唇口直线度精度高,否则影响涂胶厚度均匀性。
模唇内部空间要根据胶水的流动特性设计。 保证胶水喷出时能够在长度方向上的胶量相同。
要求底辊跳动精度高,否则影响涂胶厚度的均匀性。
真空箱在高速、上胶量小的时候使用,要求内容负压稳定,以获得更稳定的液桥。
使用精密调节机构调整 a 的数值,保证两端值相同, 即要求唇口到底辊的距离一致,否则影响涂胶厚度均匀度。
根据胶水特性选择不同厚度规格的垫片厚度,以此获得最佳的模唇腔体内部压力。
h) 严格控制从进胶口进入的胶水流量及流量稳定性, 要求供胶系统使用的计量泵为高
精度精密计量泵, 同时不允许脉冲过大, 否则无法精确计量, 进而无法获得准确的
涂胶精度。
BB
附 录 B
(规范性附录)涂料配置控制要求
B.1 混胶
B.1.1 应严格按产品配方配比称量配置,且:
——涂料的着色剂、胶黏剂、溶剂、助剂、添加剂等配比质量的允许误差为± 0.5%;
——根据溶剂挥发速度快的特性, 配置后称总量, 再用稀释溶剂补充配料过程中挥发的量。
B.1.2 双组分涂料在配置好后存在保质寿命,应在其保质时间内用完。
B.1.3 配置涂料应按先后顺序边添加边进行搅拌。
B.2 过滤
应将涂料内破坏涂布效果的颗粒、杂质、胶块等进行过滤。
B.3 配料温度
配料过程中涂料的温度变化应小于 5℃。
B.4 除泡
B.4.1
应避免涂料配置搅拌过程中掺入的气泡。
B.4.2
应消除涂料内部因气体溶解饱和释放的气泡。
B.5 清洗
配料器具、 搅拌机、 供料系统等与涂料接触的零部件都需要清洗干净, 避免生产不同产
品时涂料之间的交叉污染。
B.6 防护
配制过程中涂料配置人员应采取如下防护措施:——应戴防护口罩;——应做好消除静电措施。
CC
附 录 C
(规范性附录)
涂布量误差及涂布均匀性误差的检测方法
C.1 样品的制备
C.1.1 涂布前基材的样品
C.1.1.1 取狭缝涂布前基材如图 1所示,用面积为 0.01 ㎡的专用取样器,分别在 X(材料幅
宽)方向取左、中、右三列, Y(涂布)方向取前、中、后三行,共 9个位置取样并编号为( Q
1~Q9),共 9个试样。
说明:图中尺寸单位为毫米( mm)。
图 C.1 狭缝涂布取样位置示意图
C.1.1.2 取微凹涂布前基材如图 2所示,用面积为 0.01 ㎡的专用取样器,分别在 X(材料幅
宽)方向取左、中、右三列, Y(涂布)方向取十行,共 30个位置取样并编号为( Q1~Q30),
共30个试样。
说明:图中尺寸单位为毫米( mm)。
图 C.2 微凹涂布取样位置示意图
C.1.2 涂布后的样品
C.1.2.1 取狭缝涂布后材料,按 C.1.1.1 方法制备样品,编号为( H1~H9), 共 9个试样。
C.1.2.2 取微凹涂布后材料,按 C.1.1.2 方法制备样品,编号为( H1~H30), 共 30个试样。
C.2 检测方法
C.2.1
涂布量误差
C.2.1.1
用分度值为
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