演讲稿第3章 溅射法.pptVIP

溅射的基本原理 溅射：是利用气体辉光放电过程中产生的荷能粒子（正离子）轰击固体表面，当表面原子获得足够大的动能而脱离固体表面，从而产生表面原子的溅射，把物质从源材料移向衬底，实现薄膜的沉积。 溅射是轰击粒子与靶原子之间能量和动量传递的结果。 优选文档 * 1 溅射产额 （1）溅射产额的定义 靶材释放出来的各种粒子中，主要是溅射出来的单个原子，另外还有少量原子团或化合物的分子，而离子所占的比例较少，一般仅有1%-10%。 溅射过程可以用溅射产额这个物理量来定量地描述，其定义为平均每入射一个粒子从靶表面溅射出来的原子数，即 溅射产额同样可以表述为溅射出来的物质的总原子数与入射离子数之比，溅射产额依赖于靶材料的结构、成份及表面形貌，同时还与入射离子的能量、电荷态和种类有关。 优选文档 * （2）溅射产额的影响因素 a、入射离子能量 入射离子的能量大小对物质的溅射产额有很大的影响。 （a) 各种物质都有自已的溅射阀值，大部分金属的溅射阀值在10~40eV，只有当入射离子的能量超过这个阀值，才会实现对该物质表面原子的溅射。物质的溅射阀值与它的升华热有一定的比例关系。如下表： 溅射阀值：将靶材原子溅射出来所需的入射离子最小能量值。与入射离子的种类关系不大、与靶材有关。 优选文档 * (b) 随着入射离子能量的增加，