哈尔滨工业大学半导体物理真题荟萃.pdfVIP

哈尔滨工业大学半导体物理真题荟萃.pdf

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
哈尔滨工业大学 半导体物理 真题荟萃 一、解释下列名词或概念: (20 分) 1、准费米能级 6、布里渊区 2、小注入条件 7、本征半导体 3、简并半导体 8、欧姆接触 4、表面势 9、平带电压 5、表面反型层 10、表面复合速度 二、分别化出硅、锗和砷化镓的能带结构、并指出各自的特点( 20 分) 三、简述半导体中可能的光吸收过程( 20 分) 四、画出 p-n 结能带图 (零偏、正偏和反偏情况) ,并简述 p-n 结势垒区形成的物理过程 (20 分) 五、在一维情况下,以 p 型非均匀掺杂半导体为例,推出爱因斯坦关系式( 20 分) 六、解释下列名词或概念: (20 分) 1、准费米能级 6、施主与受主杂质 2、小注入条件 7、本征半导体 3、简并半导体 8、光电导 4、表面势 9、深能级杂质 5、表面反型层 10、表面复合速度 七、画出 n 型半导体 MIS 结构理想 C-V 特性曲线, 如果绝缘层存在正电荷或者绝缘层 -半导 体存在界面态将分别对曲线有和影响?( 20 分) 八、简述半导体中可能的光吸收过程( 20 分) 九、画出 p-n 结能带图 (零偏、正偏和反偏情况) ,并简述 p-n 结势垒区形成的物理过程 (20 分) 十、在一维情况下,以 n 型非均匀掺杂半导体为例,推出爱因斯坦关系式( 20 分) 十一、 解释下列名词或概念( 30 分): 1.有效质量 6. 空穴 2. 复合中心 7. 表面复合速度 3. 载流子散射 8. 光生电动势 4. 简并半导体 9. 表面态 5. 少子寿命 10. 表面强反型状态 二、画出本征半导体和杂质半导体电阻率随温度变化曲线 (10 分 ), 并解释其变化规 律 (20 分 ) 。 三、用能带论解释金属、半导体和绝缘体的导电性( 30 分)。 四、分别画出零偏、正偏和反偏情况下, p-n 结能带图( 15 分),并简述 p-n 结势 1 垒区形成的物理过程( 15 分) 五、如图所示,半导体光敏电阻上表面受到均匀的频率为ν的恒定光照,光功率为 Popt (w), 在电阻两端施加恒定偏压, 光敏电阻内载流子的平均漂移速度为 vd, 设表面反射率为 R,吸收系数为α, 光敏电阻厚度 d1/ α, 量子产额为β, 非 平衡载流子寿命为τ,试求: (1) 光敏电阻中光生载流子的平均产生率 g;(8 分) (2) 光生电流 I P (忽略暗电流) (8 分), 设 I Ph 为光生载流子被电极收集一次形成 I P

文档评论(0)

***** + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档