常用光学薄膜基本设备原理和方法.pptVIP

教学内容 光学镀膜系统的组成及其作用; 真空的获得和检测方法 用热蒸发方法制造光学薄膜 用溅射方法制造光学薄膜 离子镀原理和方法 教学目的和要求 了解常用光学薄膜的基本设备、原理和方法。  3.1常用光学真空镀膜系统 获得光学薄膜两种工艺:物理气相沉积和化学液相沉积 (CLD) 物理气相沉积(PW):在真空条件下,采用物理方法, 将材料源—固体或液体表面气化成气态原子、分子或部 分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基 体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 主要方法:真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子 镀膜及分子束外延等。 特点:须在真空下进行,成本高,但膜厚可以精确控制, 膜层强度好。  化学液相沉积(CLD):工艺简单,成本低,但膜层厚度不 能控制,膜层强度差,较难获得多层膜且存在水污染问题。 光学真空镀膜机的组成:真空系统、热蒸发系统和膜层厚 度控制系统。 什么是真空?压强低于一个大气压的任何气态空间 真空度:表征真空的物理量。实际上是用气体压强来表示 的。压强越小,真空度越高 量度单位:帕斯卡(Pa) MmhG=133.3Pa ITor(托)=1333Pa; mbar(毫巴)=075Torr=100Pa  真空的划分 粗真空:103Pa;低真空:103~10-1Pa; 高真空:10-1~