微结构透射阳极X射线源的设计与实验研究.pdf

微结构透射阳极X 射线源的设计与实验研究 摘 要 自2006 年Pfeiffer 提出基于常规X 射线源的光栅相衬成像方法以来，此相衬 成像方法得到了广泛的研究，并最有可能应用于实际生活中。该成像方法的优点 是在常规X 射线源中就可获得相干度较高的X 射线光子，降低了对X 射线光源的 要求。但是此相衬成像方法所要求的分析光栅为大面积小周期结构，而制作大面 积小周期光栅一直是世界性难题。瑞士学者Tilman Donath 在2009 年提出了逆 Talbot-Lau 光栅相衬成像方法。此方法增大了分析光栅的周期，降低了分析光栅 的制作难度，但是需要制作小周期的源光栅。本文就基于逆Talbot-Lau 光栅相衬 成像方法以解决源光栅制作问题开展工作，将位于X 射线源后的源光栅通过微纳 加工方法直接制作在普通X 射线源中。这样，逆Talbot-Lau 光栅相衬成像系统就 不需要源光栅，因此可以简化成像系统结构，对基于逆Talbot-Lau 光栅相衬成像 方法应用于实际生活中起到了促进作用。 本文围绕微结构透射阳极X 射线源器件的研制来开展工作，设计和制作了一 款平面型X 射线阴极，在热解石墨和导电金刚石衬底上制作了微米级的钨阵列阳 极结构。具体工作内容如下： 1、从电子发射的角度分析螺旋状阴极存在的不足，设计出一种平面型阴极 结构，在开放式真空器件测试平台上测得平面型阴极结构实际电子焦斑寸尺为 0.4mm ×0.4mm，符合透射式X 射线源对焦斑尺寸大小的要求。 2 、分析透射式结构在相衬成像系统中的优势，通过公式计算出在30kV 时X 射线可透过金属钨膜的厚度为 1.07μm，分析并选择原子序数低、熔点高、导热 性高以及导电性良好的碳系物质作为阳极衬底。 3、使用光刻工艺、磁控溅射镀膜工艺、溶脱剥离工艺在热解石墨和导电金 刚石衬底上制作出周期24μm，线宽3.5μm 的钨阵列结构，在各种衬底上制取的 钨膜厚度为 1μm 左右，比较各种衬底工艺参数的差异，最后在开放式真空器件 测试平台上对带有钨阵列结构的热解石墨和导电金刚石阳极衬底进行轰击测试。 I 微结构透射阳极X 射线源的设计与实验研究 关键字： 逆泰伯劳 平面式阴极 微结构阳极 导电金刚石 光刻 II Design and Experimental of Micro-structure Transmission Anode X-ray Source Abstract Since Pfeiffer proposed the grating phase contrast imaging based on ordinary X-ray sources in 2006, phase contrast imaging method has been widely researched and most likely to be used in practical applications. The advantage of the imaging method is that high coherence X-ray photons can be obtained in ordinary X-ray sources, which will reduces the requirement for X-ray sources. However, phase contrast imaging requires the analyser gratings with large area and small period structure, and the fabrication of large area and small period