集成电路前道工艺设备及市场剖析终详解.pptVIP

集成电路前道工艺设备及市场剖析终详解.ppt

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NEPU 集成电路前道工艺、设备及市场分析 一梅於 NEPO 目录 集成电路核心組件简介 二、半导体前道工艺 三、半导体前道设备市场分析 ◆四、机遇与挑战 NEPO 什么是集成电路 ◆集成电路(cC)就是一种微型电子器件或部件 的总和,将所有元器件和连接线制作在同一基 板上,组成的系统。 ◆半导体产业的两种模式;集成制造模式 (DM)和垂直分工模式 麒麟980 (NEP0 电阻 目昌回 氧化膜 R=R P型扩散层 (电阻) 基区扩散电阻 (NEP0 电容 隔离 电容极板 氧化膜 铝电极 氧化膜 叠式结构电容 平板型电容 (NEP0 PN结晶体管 基区(P型) 集电区 发射区 N型外延层) E B C B P P+ 衬底P型) n-epI E n+.BL P-Si NPN型双极性晶体管 NP NEPO CMOS晶体管 源极(S) 多晶硅栅极 金属连接的栅极 掺杂的多晶硅 栅极(G) 上层的氮化物 漏极金属连接 金属连接的源极 漏极(D) 栅极(多晶硅)绝缘层(sO2) 极 ide source 极氧化层 P型硅基板体 板 NEPO 目录 集成电路核心組件简介 二、半导体前道工艺 三、半导体前道设备市场分析 ◆四、机遇与挑战 NEPO 芯片制造过程 ◆Fab内〔制造的流程非常复杂,但其实〔C制造就只做一件事而已:把掩模上的电 路图转移到晶圆上。 清洗 silicon substrate (NEP0 氧化 氧化层 oxide silicon substrate

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