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光致抗蚀剂应用光致抗蚀剂光致抗蚀剂分类及其机理光致抗蚀剂简称光刻胶或抗蚀剂是一种用于光加工工艺中对加工材料表面起临时选择则性保护的涂料是现代加工工业的重要功能材料之一光致抗蚀剂分为两大类正性光致抗蚀剂受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解留下的非曝光部分的图形与掩模版一致正性抗蚀剂具有分辨率高对驻波效应不敏感曝光容限大针孔密度低和无毒性等优点适合于高集成度器件的生产它主要包负性括负性光致抗蚀剂受光照部分产生交链反应而成为不溶物非曝光部分被显影液溶解获得的图形与掩模版图形互补负性抗蚀剂的附着力强
光致抗蚀剂 [ 应用 ]
光致抗蚀剂
. 光致抗蚀剂分类及其机理
光致抗蚀剂 (简称光刻胶或抗蚀剂 )是一种用于光加工工艺中对加工材料表面起
临时选择
则性保护的涂料,是现代加工工业的重要功能材料之一。 光致抗蚀剂分为 两大类:? 正性光致抗蚀剂 :受光照部分发生降解反应而能为显影液所溶解,留下的
非曝光部分的图形与掩模版一致。正性抗蚀剂具有分辨率高、对驻波效应不敏感、 曝光容限大、针孔密度低和无毒性等优点,适合于高集成度器件的生产。它主要包
? 负性括:
? 负性
光致抗蚀剂 : 受光照部分产生交链反应而成为不溶物,非曝光部分被显影液溶解, 获得的图形与掩模版图形互补。负性抗蚀剂的附着力
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