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第1章
可制造性设计工具
Sentaurus TCAD
Sentaurus简介
• Sentaurus TCAD全面继承了Tsuprem4 ,Medici和ISE-
TCAD的特点和优势,它可以用来模拟集成器件的工艺制
程,器件物理特性和互连线特性等。
• Sentaurus TCAD提供全面的产品套件,其中包括
Sentaurus Workbench, Ligament, Sentaurus Process,
Sentaurus Structure Editor, Mesh Noffset3D,
Sentaurus Device, Tecplot SV,Inspect, Advanced
Calibration等等。
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Sentaurus简介
• Sentaurus Process和Sentaurus Device可以支持的仿
真器件类型非常广泛,包括CMOS ,功率器件,存储器,
图像传感器,太阳能电池,和模拟/射频器件。
• Sentaurus TCAD还提供互连建模和参数提取工具,为
优化芯片性能提供关键的寄生参数信息。
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Sentaurus TCAD的启动
• 运行vncviewer
• 在xterm 中输入:
source /opt/demo/sentaurus.env
• GENESISe
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本章内容
1 集成工艺仿真系统Sentaurus Process
2 器件结构编辑工具Sentaurus Structure Editor
3 器件仿真工具Sentaurus Device
4 集成电路虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介
2020-09-23 浙大微电子 7/117
本章内容
1 集成工艺仿真系统Sentaurus Process
2 器件结构编辑工具Sentaurus Structure Editor
3 器件仿真工具Sentaurus Device
4 集成电路虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介
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Sentaurus Process 工艺仿真工具简介
Sentaurus Process是当前最为先进的工艺仿真工具,
它将一维,二维和三维仿真集成于同一平台中,并面向当代
纳米级集成电路工艺制程,全面支持小尺寸效应的仿真与模
拟。Sentaurus Process在保留传统工艺仿真软件运行模式
的基础上,又做了一些重要的改进。
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•增加了模型参数数据库浏览器(PDB ),为用户提供了
修改模型参数和增加模型的方便途径。
•增加了一维模拟结果输出工具Inspect和二维、三维模拟结
果输出工具(Tecplot SV )。
•增加了小尺寸模型。这些小尺寸模型主要有:
− 高精度刻蚀模型,
−基于Monte Carlo 的离子扩散模型,
−注入损伤模型,
− 离子注入校准模型等等。
增加了这些小尺寸模型,提高了工艺软件的仿真精度,
适应了半导体工艺发展的需求。
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