《材料研究与测试方法》第2章第1节电子显微分析.ppt

第二章 电子显微分析 第一节 电子光学基础 为减小像差，对电镜中的电子光学系统的一些附加限制： 电子的波性及其波长 电子在电磁场中的运动和电子透镜 2. 静电透镜 3. 电子在磁场中的运动 4. 磁透镜 透镜磁场对电子束聚焦成像的原理 电磁透镜的像差和理论分辨本领 1. 球差 2. 色差 3. 轴上像散 4. 畸变 电磁透镜的场深和焦深 * 电子显微分析是利用聚焦电子束与试样物质作用产生的各种物理信号来分析试样物质的微区形貌、晶体结构和化学组成。 电子显微分析包括： 透射电子显微分析 扫描电子显微分析 电子探针X射线显微分析 （a）透射电子显微镜 （b）扫描电子显微镜 电子光学的研究对象是带电粒子在电场和磁场中的运动，特别是在电场和磁场中的偏转、聚焦和成像规律。 电子光学和几何光学的对比： 几何光学是利用透镜使光线聚焦成像，电子光学利用电场或磁场使使电子束聚焦成像，电场、磁场起电子透镜的作用。 在几何光学中利用旋转对称面作为折射面。在电镜中是利用旋转对称的电、磁场产生的等位面作为折射面。 电子光学可仿照几何光学把电子运动的轨迹看成射线，并引入一系列的几何光学参量（如焦点、焦距等）来表征电磁透镜对电子射线的聚焦成像作用。 涉及的电、磁场为静场，场中没有自由空间电荷或电流分布。 入射电子束的轨迹必须满足旁轴条件（10-2~10-3 rad）。 光学显微镜的局限 光学透镜的分辨本领为： 分辨本领是指一个光学系统分开两个物点的能力，在数值上为刚能清楚分开两个物点间的最小距离。 光学显微镜的分辨本领极限为200nm 。 n为透镜上、下介质的折射率，α为透镜孔径半角。 电子在电场中被加速后其波长为： 在透射电镜中常用的加速电压为50~200kV，电子的波长为0.00536~0.00251nm ，大约为可见光的十万分之一。 经相对论校正后： 1. 电子在静电场中的运动 当电子由低电位V1区进入高电位V2区时，折射角γ小于入射角θ，电子轨迹趋向于法线。反之，电子轨迹将离开法线。 一定形状的等电位面簇可使电子束聚焦成像，静电透镜就是产生旋转对称等电位面簇的电极装置。 静电透镜需要很强的电场，易在镜筒内导致击穿和弧光放电，因此静电透镜的焦距不能做得较短，不能很好地矫正球差。 电子在磁场中运动时所受的洛仑兹力为： 电子在匀强磁场中的运动 旋转对称的磁场对电子束有聚焦成像作用，在电子光学系统中用于使电子束聚焦成像的磁场是非匀强磁场，其等磁位面形状与静电透镜的等电位面或光学玻璃透镜的界面相似。磁透镜就是产生这种旋转对称磁场的线圈装置。 包壳磁透镜结构示意图 极靴磁透镜结构示意图 不同磁透镜的轴向磁场分布强度 有极靴的磁透镜，在上、下极靴附近有很强的磁场，对电子的折射能力大，透镜焦距很短。 电子在短线圈磁透镜中受到的力及电子的轨迹 （a）磁场分布及电子轨迹；（b）电子在前半个磁场中受到的力Fr指向轴；（c）电子在后半个磁场中受到的力Fr也指向轴 电子通过磁透镜时的轨迹 （a）电子在圆锥表面上的轨迹；（b）电子轨迹在与轴垂直平面上的投影 由于成像电子在透镜中旋转，用电磁透镜成像时，物像的相位相对于实像来说为180°-φ ，对于虚像来说为±φ 。 φ是成像电子在磁场中旋转的角度，称为电磁透镜的旋转角。 旋转对称的磁场可使电子束聚焦成像，但要得到清晰而又与物体的几何形状相似的图像，必须有以下前提： （1）磁场分布是严格轴对称的； （2）满足旁轴条件； （3）电子波的波长（速度）相同。 像差 电镜中的主要相差有：球差、色差、轴上像散、畸变等。其中球差、轴上像散和畸变是由于透镜磁场的几何缺陷产生的，又称几何相差。 球差是由于电磁透镜磁场的近轴区和远轴区对电子束的会聚能力不同而造成的。 色差是由于一个物点散射的具有不同波长的电子，进入透镜磁场后将沿各自的轨迹运动，结果不能聚焦在一个像点上。 轴上像散是由于电磁透镜不是理想的旋转对称的磁场而引起的。 正球差产生枕形畸变， 负球差产生桶形畸变， 磁透镜旋转角的存在伴随产生旋转畸变。 球差系数随激磁电流的减小而增大，电磁透镜在较低激磁电流下工作时，球差比较大。电子显微镜在低倍数时易产生畸变。 5. 电磁透镜的分辨本领 分辨本领是电磁透镜的最重要的性能指标，它受衍射效应、球差、色差和轴上像散等因素的影响，其中衍射效应和球差是最主要的