材料表面工程-第四讲.pptxVIP

; 一、气相沉积技术 二、高能束表面处理;一、气相沉积技术;1.气相沉积技术原理、分类 定义-在基体上形成功能膜层的技术，也称作干镀。 分类-膜层形成机理可分为 ;2.物理气相沉积原理、装置及工艺 (1)真空蒸镀 定义-在真空条件下，用加热蒸发的方法使镀料转化为气相，然后凝聚在基体表面的方法。 步骤-清洁基材表面→蒸发源加热镀膜材料→材料蒸发或升华成蒸气→蒸气在基材表面凝聚成膜。;原理-在高真空中，镀料气化（升华）。基体设在蒸气流上方，且温度相对较低，则蒸气在基体上形成凝固膜。 ;设备 ;8;9;10;11;真空蒸镀膜性质 大多数呈晶态，尺寸10~100nm； 膜层与基体的结合主要为机械结合； 形貌取决于膜层材料的特性、基体材料及操作时基体的温度； 常用的蒸镀材料有:铬、铜、金、铝、氧化硅、锡、锑、三硫化锑等。 ;(2)溅射镀膜 定义-在真空室中，用荷能粒子轰击靶材，使其原子获得能量而溅出进入气相，并在工件表面沉积成膜。荷能粒子一般为离子。 步骤-靶面原子溅射→溅射原子向基片迁移→沉积成膜。;常用方法 二极溅射 ; 射频溅射 射频：指频率低于6×1012的电振荡频率 ; 磁控溅射 ; 三极溅射 ;溅射镀膜应用 机械功能膜：耐摩、减摩、耐热、抗蚀等强化膜，固体润滑薄膜； 物理功能膜：电气、磁学、光学等； 装饰膜。 ;(3)离子镀膜 定