薄膜表征培训课程.pdf

第五章薄膜表征 电脑 实验中控制镀 膜厚度是最重要的。 要控制镀膜的厚度， 膜厚测量装置 应该要求膜厚测量 加热器 仪与膜材料蒸发器 统一受控与同一系 统，使这两部分装 置协调工作、相互 配合，当膜厚达到 要求时立即停止加 基板 热，并冷却。这样 才能有效地控制膜 厚，使镀膜厚度达 到光学仪器的设计 坩埚 要求。 一、沉积率和厚度监测仪 （一）气相密度检测 通过测量蒸汽密度测量膜厚的离化监测计 f-灯丝 c-收集极 Ii-离子电流 Ie-电子电流 （二）振动石英 石英晶体振荡式检测：石英片由一个固有的 谐振频率，淀积在它表面的物质质量改变时，谐 振频率发生变化，推算淀积层的厚度 （三）光学膜厚检测 透明薄膜产生光学干涉 在溅射系统中的一个光学厚度检测装置 （四）其他监测仪器 二、膜厚度测量 （一）光学厚度确定 Tolansky 干涉仪 FECO 干涉仪 （二）X射线干涉仪（Kiessig） x 射线干涉仪图 x 射线干涉仪反射曲线 2 1/2，表面和界面反射的光程差为 根据Shell定律可以得出 (−2)  1 DK (K1,3,5) ，从而厚度可以看成： 4 2 2Dsin+/2 −2 K （三）探针法 测量膜厚的探针法 第二节组分表征  化学成份是决定纳米粒子及其制品性能的最基本 因素。常用的仪器分析法主要是利用各种化学成 份的特征谱线 一、卢瑟福背散射（RBS ） •用氦离子以接近法线的方 向入射到样品上 •样品中的杂质将氦离子背 散射出来 •背散射氦离子带有的能量 取决于杂质的质量和杂质 在晶体中的深度 •背散射出来的氦离子被收