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射 频 法 离 子 镀 膜 射频法离子镀膜的主要特点 (4) 易于操作。 以蒸发源为中心的蒸发区，以线圈为中心的离化区， 以基板为中心的加速和沉积区，可分别独立地控制。通过对三个区域的 控制，可改造膜层的特性。 沉积时基片所需的温度也低。 (3) 用射频法离子镀膜形成的 膜层有良好的外延性 。和真空 蒸发镀膜相比，外延温度低，如真空蒸发镀膜的外延温度为 350 ? C ，射频法在 120 ? C 就可形成薄膜。 (2) 蒸发材料分子受射频振荡场的激励，其氮化与氧化的作用有 所提高，因而 可以容易地形成氧化物和氮化物薄膜。 (1) 和直流二极型相比， 膜层纯度高，组织更致密。 31 电 镀 真空蒸发 真空溅射 离子镀膜 镀覆物质 金 属 金属 某些化合物 金属、合金、化 合物、陶瓷、高 分子物质 金属、合金、陶 瓷、化合物 方 法 电 解 真空蒸镀 真空等离子体法 离子束法 真空等离子体法 离子束法 粒子动能 (Ev) ? 0.2 0.1 ? 1.0 几个 ? 100 几十 ? 5000 沉积速率 中 等 高 ( ? 1 ? m/min) (3 ? 75 ? m/min) 慢 ( ? 0.1 ? m/min) 高 ( ? 1 ? m/min) ( 达 50 ?