双工件台系统FMECA分析曾纪栋.pptVIP

种放大学 光刻机双工件台系统的 FMECA 分析 硕士生:曾纪栋 导师:凌丹副教授 专业:机械电子工程 电子料技大学 可靠性工程研究所  光刻机简介 芯片无处不在 光刻机是微电子装备的龙头 电子料技大学 可靠性工程研究所 0228 的北大学  国内外光刻机厂家产品比较 上海微电子装备有 光刻机生产厂家 限责任公司 ASML SMEE) TWINSCAN 产品型号 SSA600/20 PAS5500/1150CNXE:3300B (第8代) (第11代) 完工时间 2009年 1997 2013 分辨率 gOne 90nm 22nm 曝光光源 ArF excimer laser ArF (ArF准分子激光) EUV(远紫外线) 工件台运行方式步进扫描(单工件步进扫描(单工步进扫描(双工 台) 件台) 件台) 效率 135片h 125片/h 价格 几百万美元 1千万欧元 1亿美元 单台套刻精度 12nm nm 多机套刻精度 20nm 5. 0nm 电子料技大学 可靠性工程研究所 的北大学  课题来源 发展光刻机产业,促进国家信息化产业发展 国家科技重大专项02专项项目。本论文来源于与清华大 学合作的《光刻机系统样机研制阶段可靠性评估和强化的 关键技术》 电