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薄膜技术及其在光电领域的应用与进展 3113001515 潘国豪 薄膜技术是指薄膜技术是薄膜制备、测试等相关的各种技术的总称。目前主要薄膜技术有它包括蒸发、溅射、化学气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、液相沉积和湿化学合成等等。现在薄膜技术在电子显示技术、通讯、信息工程、LED照明、太阳能薄膜电池等急剧增加都得到了广泛的应用，它们不仅成为一间独立的应用技术，而且成为材料表面改性和提高某些工艺水平的重要手段。这些年来，而这类的产品通常用。随着技术的逐渐发展，研制出新型半导体材料、新型光电器件、超大规模集成电路薄膜技术电路，越来越受到大家的关注，新材料将引领现代文明社会和高新技术发展。 1.1化学气相沉积 外延生长（外延）就是在一定条件下在单晶基片上生长一层单晶薄膜的过程，所生长的单晶片薄膜称为外延层。外延技术解决了半导体分立元件和集成电路中的许多问题，大大提高了器件的性能。气相外延生长是最早应用于半导体领域较成熟的外延技术，目前制备半导体单晶体外延薄膜的最主要方法是化学气相沉积（简称CVD），CVD技术就是利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。 1.1.1硅化学气相沉积 硅气相外延是在各种半导体材料中的CVD十分成熟的，CVD的生长按生长设备分为闭管和开管两种。闭管外延将源材料、衬底、输运剂一起放在一密封容器内，容器重启或抽空。而开管外延是用载气将反应物由源区书