第7章微位移的技术.ppt

第7章微位移技术 电磁控制的微动工作台首先由日本研制成功。1955年NIHIZAWA等人开始研究，至1975年研制出定位精度为0.2um的微动工作台，并成功地应用于电子束曝光机中，成为微位移技术中的一个新方法。 第三节 精密致动技术 电磁致动的原理如图所示，把微动工作台1用4根链或金属丝4悬挂起来；工作台两端分别用弹簧3固定，另外两端放置两块电磁铁。通过改变电磁铁线圈的电流来控制电磁铁对工作台的吸引力，克服弹簧的作用力，达到控制工作台微位移的目的。 设工作台的位移量为△d，当电磁铁的吸引力为F时，此时工作台保持平衡。F应等于弹簧的拉力F与工作台由初始位置位移△d所产生的吊簧拉力F之和，即 第三节 精密致动技术 第三节 精密致动技术 电磁铁的吸引力为 式中:B—电磁场磁通密度，Wb； μ—导磁率,H/m； S—磁极截面面积。 弹簧的拉力为 第三节 精密致动技术 式中:k—弹簧常数,kg/m； △d—工作台移动距离，m； g—常数(g=9.8N/kg)。 设由于工作台移动而形成悬挂丝的偏角为B,工作台向上移动为Ah,那么， △h=L(1-cosθ) 式中，L为挂丝长度，当L足够长时，△h/L=1- cosθ。由于θ很小，故△h/L→0，故弹簧拉力与挂丝的拉力相比较，可以忽略不计，所以电磁铁的吸引力变成 第三节 精密致动技术 由上式可见工作台移动的距离,△d与磁通密度的平方成正比，通过改变流过电磁铁线圈中的电流可以改变磁通密度，以达到控制位移的目的。 第三节 精密致动技术 通过线圈的电流与磁通密度的关系为 式中：N—绕在电磁铁上的线圈圈数； l—磁路长度，m； —磁性材料的导磁率, H/m； μ—空气隙的导磁率,H/m； d‘—空气隙长度，m； I—电流强度，A。 于是： 第三节 精密致动技术 得当磁性材料的导磁率比气隙导磁率μ大得多时，即lμd‘,则： 由上式可见，工作台移动的距离与电流和线圈圈数平方成正比。 第三节 精密致动技术 精度、稳定速度和气隙的关系： 当不考虑磁饱和特性时，随精度和定位范围的确定，则合适的稳定速度和气隙长度也确定了。 电流变化速度I/A和气隙d变化量之间的关系如图。|△d|在1um～10mm之间，精度K为0.1um～10um。为提高精度，应采取较高的电流变化精度。 第三节 精密致动技术 第三节 精密致动技术 1.柔性支承—压电或电致伸缩微位移器驱动 柔性支承微动机构是近年来发展起来的一种新型的微位移机构。它的特点是结构紧凑、体积很小，可以做到无机械摩擦、无间隙，其有较高的位移分辨率，可达1nm。 使用压电或电致伸缩器件驱动，不仅控制简单(只需控制外加电压)，而且可以很容易实现亚微米甚至是毫微米级的精度，同时不产生噪声和发热，可适于各种介质环境工作，是梢密机械中理想的微位移机构。 第四节 典型微位移系统 名称 特点 图示 1、柔性支承一压电器件驱动的微位移机构 这种机构是一种新型微位移机构，微移动工作台被安装在柔性支承上；压电元件在电压驱动下可精密伸长与缩短，并推动柔性支承与工作台一起位移。由于柔性支承无间隙、无摩擦、不发热，而压电驱动精度高、无噪声、不受温度和电磁场影响、体积小、不老化，因而很容易实现0.l～0.001μm的微位移。 柔性支承—压电器件驱动的微位移机构 第四节 典型微位移系统 第七章 微位移技术 第一节 概述 第二节 柔性铰链 第三节 精密致动技术 第四节 典型微位移系统 第五节 精密微动系统设计实例 微位移技术发展很快： 用金刚石车刀直接车削大型天文望远镜的抛物面反射镜时，要求加工出几何精度高于1/10光波波长的表面，即几何形状误差小于0.05 μm。 计算机外围设备中大容量磁鼓和磁盘的制造，为保证磁头与磁盘在工作过程中维持1 μm内的浮动气隙，就必须严格控制磁盘或磁鼓在高速回转下的跳动。 特别是到20世纪70年代后期，微电子技术向大规模集成电路（LSI）和超大规模集成电路（VLSI）方向发展，随着集成度的提高，线条越来越微细化， “向22nm进军”。 256K动态RAM线宽已缩小到1.25 μm左右。目前已小于0.1 μm ，对与之相应的工艺设备（如图形发生器、分步重复照相机、光刻机、电子束、和X射线曝光机及其检测设备等）提出了更高的要求，要求这些设备的定位精度为线宽的1/3～1/5,即亚微米甚至纳米级的精度。 第一节 概述 第一节 概述 微位移机构系统的基本构造： 第一节 概述