生产工艺技术扩散工艺说明尚德.pdfVIP

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2021-01-10 发布于陕西
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生产工艺技术扩散工艺说明尚德.pdf

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{生产工艺技术}扩散工艺说明尚德旧底图总号底图总号日期签名产品名称单晶硅电池片 SF 工艺说明产品图号 SF5.405.010 编号旧底图总号第 2 张共 7 底图总号版号 01 工位名称扩散工位编号 KS 需要人数张 4.6 方块电阻测量（见附页三）日期签名 4.6.1 旧底图总号放入片盒中，注意区分扩散面和非扩散面，扩散面一定要朝片盒的大面放置。底图总号 4.6.2 日期签名方块电阻时注意探针距硅片边缘的距离要大于 1cm 《方块电阻记录表》。产品名称单晶硅电池片 4.6.3 方块电阻值要求在 40±5Ω范围内，不均匀度不超过 10 编号 SF 工艺说明产品图号 SF5.405.010 插片第 4 张共 7 版号 01 工位名称扩散工位编号 KS 需要人数（R 最大-R 最小）/ （R 最大+R 最小）×100%即为不均匀度。张石英吸笔，从片附页一：装片、检验 4.7 卸片、检验（见附页四）旧底图总号 4.7.1 片盒盒中吸取硅片 4.7.2 通过传递窗流入下道工序。插到石英舟内。底图总号 4.8 工艺参数日期签名 4.8.1 扩散工艺参数在各炉管中，均定义为 01 号工艺。产品名称单晶硅电池片 SF 工艺说明产品图号 SF5.405.010 编号移动、放置石时间（分钟）温度（℃）大 N2 小 N2 O2 （L/min ）第 5 张共 7 版号 01 工位名称扩散工位编号 KS 需要人数触摸屏（L/min ）（L/min ）张英舟时，一定进炉 6 840~890 25~30 20 附页二：上桨要小心轻放！稳定 9 840~890 25~30 20 旧底图总号底