材料分析方法复习讲义.docVIP

一、名词辨析 连续X射线：从某一-短波限九SWL开始，直至波长等于无穷大九的一-系列波长。 特征X射线：具有一定波长的特强X射线，叠加于连续X射线谱上。 光电效应：当入射光子的能量等于或略大于吸收体原子某壳层电子的结合能时，此光子就很容易被 电子吸收，获得能量的电子从内层溢出，成为自由电子，即光电子，原子则处于相应的 激发态，这种原子被入射光子电离的现象即光电效应。 俄歇效应：原子中一个K层电子被入射光子击出后，L层一个电子跃入K层填补空位，此吋多余的 能量不以辐射X光子的方式放出，而是另一个L层电子获得能量跃出吸收体，这样的一 个K层空位被两个L层空位代替的过程称俄歇效应。 相干散射：X射线与物质原子内层电子相撞，入射光子的能量全部转给相撞电子，在X射线电场作 用下，产生强迫振动，电子成为新电磁波源，向四周辐射与入射光子等波长的电磁波。 非相干散射：入射线与束缚较弱的外层电子或自由电子作用，电子获一部分动能成为反冲电子，入射 线失去部分能量，改变了波长，沿与入射方向成一定角度的方向辐射。 空间点阵：晶体小呈周期性排列，且几何、物理环境相同的基本组元（原子、离子、分子）抽象为一几 何点（阵点），由此构成的几何图形。 倒易点阵：在晶体点阵的基础上按一定对应关系建立起来的空间儿何图形，是晶体点阵的另一种表达 形式。 能谱仪、波谱仪：屯子探针的信号监测系统是X射线谱仪，测定特征波长叫做波谱仪，测定特征能量 的叫做能谱仪，前者精度高，后者速度快，仪器结构简单 等厚条纹、等倾条纹:偏离矢量S-常数吋，随着样品厚度t的变化衍射强度将发生周期性的振荡，锲形 边缘处出现的厚度消光条纹。因为同一条条纹的厚度是相等的，所以称之为等厚条纹。 当样站厚度匸常数吋，衍射强度I g随衍射晶面的偏离参量S的变化。不同位置处的晶面由于偏离矢 量的周期性变化，形成了消光条纹。因为同一条纹上晶体偏离矢量的数值是相等的，所以这种条纹被 称为等倾条纹 电磁透镜的球差：是由于电磁透镜的屮心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律造成的。 远轴电子比近轴电子被折射程度过大。当物点通过透镜成像吋不会会聚到同一焦点上，从而形成了一 个散焦斑。小孔径角成像时，可使球差明显减小。 像散：是由透镜磁场的非旋转对称而引起的。可以通过引入一个轿正磁场来消除 明场成像：让透射束通过物镜光阑而把衍射束挡掉得到图像衬度的方法叫作明场成像，所得到的像为 明场像。 喑场成像：让衍射束通过物镜光阑血把透射束挡掉得到图像衬度的方法叫作喑场成像，所得到的像为 暗场像。暗场像图像的衬度特征和明场像正好和反。 双光束近似：电子束在透过薄晶样品成像吋，除了透射束外只存在一束较强的衍射束，而其他衍射束 大大偏离布拉格条件，它们的强度可视为零。 柱体近似：把成像单元缩小到和一个晶胞相半的尺寸。衍射束和透射束都能在一个和晶胞尺寸相当的 晶柱内通过，和邻晶柱内的衍射波互补干扰 二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品原子的核外电子。二次电子的能量 较低，产额与原子序数没有明显的关系，主要用于分析样品表面的形貌。 背散射电子：它是被固体样品小的原子核反弹回来的一?部分入射电子，其产额随样品的原子序数增大而 增大，不仅可用作形貌分析，也可用作显示原子序数衬度。 晶面：晶体屮由原子构成的平面，用晶面在三个晶轴上的截数的倒数的互质整数比来标记，记 为(hkl)o 干涉面：晶面(hkl)的n级反射ffi(nh,nk,nl),用符号(HKL)表示，称为干涉面。 原子散射因子：表示某一个原子在某一方向上散射波的振幅是一个电子在相同条件下的散射波 振幅的f倍，它反映了原子将X射线向某一个方向上的散射能力。 结构因子：它表征了单胞的衍射强度，反映了单胞屮原子种类、原子数H及原子位置对(HKL)晶 面衍射方向上衍射强度的影响。 景深：不影响分辨率条件下，电磁透镜物平面允许的轴向偏差 焦长：不影响透镜分辨率条件下，像平面可沿轴向平移距离 背散射电子：被固体试样中原子核反弹回来的一部分电子，其屮包括弹性和非弹性散射电子。 二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品原子的核外自由电子做二次电子。 9?物相分析：分析物质的物相组成和晶体结构 化学成分分析：分析物质的元素组成和各自的含量 二?填空题 特征X射线谱的类型：L-K , Ka ； M-K, Kp以及它们的波长和能量关系 莫塞莱定律 ￡ = K2(Z_C Z与Q的关系 靶材滤波片样品的选择 2dSin0 = nA与2dSin0 =久 以及仏,七K? + C,R的相互联系 2 5- 一。急(和)2护％『 P多重性因子 |為和『结构因子卩()角因子 A()吸收因子 ￡—2温度因子 2 °()角因子(洛伦兹因子 —— 偏振因子1+些匚药) sNOco