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材料现代分析技术 填空题（每空1分） 当X射线管电压超过临界电压就可以产生连续谱X射线和 特征谱X射线。 2?点阵常数测定过程屮需要确定峰位，确定峰位的常用方法有峰顶法、切线法、半 高宽法，和抛物线拟合法o m HI IOeH 3.经过厚度为H的物质后，X射线的强度为。 4. X射线扫描仪屮的常规测量屮的实验参数包括狭缝宽度、扫描速度和时间常数o 1 5.磁透镜的物距L1,相距L2和焦距f三者之间的关系为。6.透射电镜样品制备 各方法主要佇复型法、和薄膜法，其屮复型样品制备屮第料-碳二的复型优于碳一的复型 是由于其制备过程不损坏金相试样表面，重复性好，供观察的第二级复型一?碳膜导电导 热性好，在电子束照射下较为稳定。 差热分析曲线总的峰高表示试样和参比物之间的最人温差，即从封顶到该峰所在 基线碱的垂直距离。 第一类应力导致X射线衍射线位移，第二类应力导致X射线衍射线线形变化，第三 类应力导 致X射线衍射线 强度降低。 红外光谱法定量分析的具体方法主要有标准法、吸光度比法和补偿法共同组 成。 单晶体电子衍射花样是规则的衍射斑点组成。 人量实验证明，X射线具有波动性和微粒性的双重性，即波粒二象性。 布拉格方程式衍射分析屮最基本的公式，其应用主要集中在结构分析和X射线谱 分析两个方血。 由于X射线的发展，相继产生了 X射线透射学、X射线衍射学和X射线光谱学等 三个学科。 提高透镜分辨率的木领波长，介质和孔径半角。 电磁透镜的几何像差包括球差和像散，而电子束波长的稳定性决定的像差为色 差。 透射电镜主要有电子光学系统、电源控制系统和真空系统构成。 非弹性散射机制主要有单电子激发、等离子激发、和声子激发。 透射电镜的主要性能指标分辨率、放人倍数、和加速电压。 热分析测试过程屮，粉体试样屮粉体粒度与粉体堆积密度对热分析结果影响较 大。 用來进行晶体结构分析的X射线学分支是X射线衍射学。 M层电子冋迁到K层后，多余的能量放岀的特征X射线称KPo X射线衍射屮，只有晶血间距人于波长的一半的晶血才能产生衍射。 布拉格方程解决了 X射线衍射方向问题，即满足布拉格方程的晶面将参与衍射，但 能否产生衍射花样还取决于衍射强度。 电子对X射线散射分为两种情况，一种是受原子核束缚较紧的电子，X射线作用 后，该电子发生振动，向空间辐射与入射波频率和同的电磁波，由于波长、频率相同， 会发生相干散射和另-?种X射线作用在束缚电子上，产生康普顿效应-一非相干散射， 产生背底。 X射线线扫描仪屮的扫描方式主要有光栅扫描和角光栅扫描。 根据量子力学计算，L秃层的能级实际上是由3个子能级构成,壳层的能级由5 个能级构成,N层由7个子能级构成。 劳也方程是确定X射线衍射方向的基木方程，常用与晶体取向测定和晶体对称性的 研究。 2影响多晶体衍射强度的其他因数主要有多重因数P、吸收因子A(B)和温度因 子 e-2M。 X射线定量分析的方法有外标法和内标法两人类。 有一体心立方晶体的晶格常数是0. 286nm,用铁靶Ka ( X K a =0. 194nm )照射该晶 体能产生条衍射线。 电子显微分析方法以材料微区形貌、晶体结构和化学组成为基木U的。 三?名词解释 非相干散射：当x射线经束缚力不人的电子或自由电子散射后，可以得到波长比入 射X射线长的X射线，且波长随散射方向不同而改变，这种散射现象称为非相干散射。 结构消光：当阵点不是一个单原子，而是一个原子集团时基元内原子散射波间相互 干涉也可能会导致消光，此外布拉菲点阵通过套构后形成的复式点阵，出现了布拉菲点阵 木身没有的消光规律，称这种复加的消光为结构消光。 物相的定性分析：指确定材料有哪些相组成的分析过程。 特征X射线：在连续谱的某些特定位置上岀现一系列强度和高，波长很窄的线，称 为特征X射线。或特征X射线是原子的内层电子受到激发以后，在能级跃迁过程屮直接释 放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。 光阑：光具组件屮光学元件的边缘，框架或特别设置的带孔屏障成为光阑是为描掉发 散电子，保证电子束的相干性和电子束照射所选区域而设计的带孔小片。 蓝移效应：当有机化合物的结构发生变化时，其吸收带的最人吸收峰波长或位置 (最人)向短波方向移动，这种现象称为蓝移(或紫移，或“向蓝”) 拉曼位移：指入射线光子与分子发生非弹性碰撞作用，在光子运动方向改变的同时 有能量增加或损失的散射。 相干散射：当x射线通过物质时，物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振 动，受迫振动产生交变电磁场，其频率与入射线的频率相同，这种由于散射线与入射线的 波长和频率一致，位相固定，在相同方向上各散射波符合相T条件，故称为相干散射。 干涉指数：虚拟晶血(HKL)为干涉血，(HKL)为干涉血指数，简称干涉指数。 DTA曲线峰宽：差热曲线偏离基线的始点与返冋基