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ELA 工艺技术 - 主要参数 Energy Density Vs Melt regime 31 ELA 基础知识介绍 Array-MFG 2015/09/10 Locfe 南城 1 Outline 1. ELA 与 LTPS 制程 2. 准分子激光退火系统 3. ELA 工艺技术 4. ELA 工艺测试 2 ELA 简介 准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时， 它处于分离状态，而在激发态处于分子状态。 常见的准分子有： XeF * 、 KrF * 、 ArF * 、 XeCl * 、 XeBr * 3 ELA 简介 为什么选用准分子激光？ 准分子激光对应的紫外波段， a-Si 薄膜对紫外光有大的吸收系数 紫外光的注入深度较小，可以减小激光对玻璃基板的作用 4 ELA 与 LTPS 制程 5 ELA 与 LTPS 制程 6 ELA 与 LTPS 制程 7 2. 准分子激光退火系统 (2) 准分子激光原理、结构及参数 (1) 准分子激光退火系统的结构 (3) 光学系统构成简介 (4) 退火腔结构简介 8 ELA 系统基本组成 准分子激光退火系统 9 TCZ JSW ELA System overview 准分子激光退火系统 - ELA System overview 10 准分子激光原理、结构及参数 - 激光器原理 11 准分子激光原理、结构及参数 - 激光器原理 12 准分子激光原理、结构及参数 - Laser tube design 13 准分子激光原理、结构及参数 - Laser tube design 准分子激光原理、结构及参数 Lasing Ion branch Discharge Xe ， F 2 Xe ， Xe * ， Xe + ， F 2 ， F - Xe * ， F 2 Xe + ， F - (XeF) * Xe ， F Neutral branch 351 nm e - + Xe→Xe + + e - + e - e - + Xe→Xe * + e - e - + F 2 →F - + F Xe + + F - + M→(XeF) * + M Xe * + F 2 →(XeF) * + F Pumping: Stimulated: (XeF) * + h ν →Xe + F + 2h ν (351nm) Losses: (XeF) * →Xe + F+hν (351nm) (XeF) * + M→Xe + F + M (XeF) * + M + Xe→Xe 2 F + M X + h ν(351nm)→X * 15 准分子激光原理、结构及参数 - Laser architecture 16 准分子激光原理、结构及参数 - Gas lifetime 17 准分子激光原理、结构及参数 - 参数 18 准分子激光原理、结构及参数 - 参数 Peak to Peak Energy Fluctuation 19 准分子激光原理、结构及参数 - 参数 Pulse duration 20 Pulse duration 21 准分子光学系统简介 光学系统示意图 22 准分子光学系统简介 Monitor system 示意图 23 准分子光学系统简介 Beam Short Axis Long Axis 24 Short Axis Slope 准分子光学系统简介 25 退火腔结构简介 退火腔室结构 26 退火腔结构简介 Scan Process 27 3. ELA 工艺技术 (1) 晶化机制 (2) 主要参数 28 薄膜吸收与加热 薄膜表层熔融 热能传导 部分熔融 接近完全熔融 完全熔融 激光照射 多晶硅晶化过程 29 ELA 工艺技术 - 晶化机制 30