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纲要;气相合成;气相热裂解;气相热裂解;气相热裂解;气相热裂解;火焰燃烧法;火焰燃烧法;火焰燃烧法;火焰燃烧法;化学气相沉积;化学气相沉积的分类;化学气相沉积-设备;化学气相沉积-设备-管式;化学气相沉积-设备-箱式;化学气相沉积;化学气相沉积-薄膜制备;ALD- Al2O3;ALD;MOCVD：;Shuji Nakamura;;化学气相沉积：V-L-S 机理;化学气相沉积：纳米线阵列-碳纳米管;化学气相渗透 CVI （ Chemical Vapor Infiltration ）;化学气相传输 一个或多个固体反应物与一个挥发性物质反应，最后在 反应装置的另一端沉积出固体产物。 ;物理气相沉积 – PVD Physical Vapor Deposition;物质的热蒸发 (Thermal Evaporation) ----物质的蒸发速度 在一定的温度下，每种液体或固体物质都具有特定的平衡蒸汽压。只有当环境中被蒸发物质的分压降低到了它的平衡蒸汽压以下时，才可能有物质的净蒸发。单位源物质表面的物质的净蒸发速率应为∶;PVD：热蒸发;物质;沉积的均匀性;PVD：溅射;溅射现象: 溅射仅是离子对物体表面轰击时所可能发生的物理过程之一。每一种物理过程的相对重要性取决于入射离子的能量。利用不同能量的离子与固体表面相互作用过程不同，不仅可以实现原子的溅射，还可以观察到诸如离子注入(离子能量1000keV)、离子的芦瑟福背散射(1MeV)等。;溅射产额 溅射是一个离子轰击物质表面，并在碰撞过程中发生能量和动量转移，从而最终将表面原子激发出来的复杂过程。溅射产额是被溅射出来的原子数与入射原子数之比，它是衡量溅射效率的一个参数。它与入射离子能量、物质种类、和入射角等因素有关。;MBE: (Molecular beam epitaxy) 分子束外延;MBE-应用例子;MBE-应用例子;The MBE System in the William R. Wiley Environmental Molecular Sciences Laboratory;MBE of Omicron brade;MBE system in XMU;固相合成;固-固反应;低温固相反应;固相反应机理：界面扩散;影响固相反应的因素;影响固相反应的因素;注意：颗粒尺寸不同反应机理也可能变化。 如CaCO3和MoO3的反应： 当在600℃等摩尔反应， ?CaCO3颗粒尺寸 MoO3 颗粒尺寸 反应由扩散控制； ??若MoO3 颗粒尺寸 CaCO3颗粒尺寸,且CaCO3过量， 则反应由MoO3的升华控制。 ;影响固相反应的因素;影响固相反应的因素;影响固相反应的因素;假固相反应;固相反应- Kirkendall Effect ;;固相反应- Kirkendall Effect ;固相反应- 阳离子交换;固相反应- 阳离子交换;固相反应- 阳离子交换;小结;作业;气相热裂解;火焰燃烧法;化学气相沉积-设备;化学气相沉积-薄膜制备;化学气相沉积：纳米线阵列-碳纳米管;物质的热蒸发 (Thermal Evaporation) ----物质的蒸发速度 在一定的温度下，每种液体或固体物质都具有特定的平衡蒸汽压。只有当环境中被蒸发物质的分压降低到了它的平衡蒸汽压以下时，才可能有物质的净蒸发。单位源物质表面的物质的净蒸发速率应为∶;影响固相反应的因素