第4章 光学薄膜制造工艺.pptVIP

光学薄膜器件性能质量好坏由两个方面决定：;第四章 光学薄膜制造工艺;4.1 光学薄膜器件的质量要求;4.1 光学薄膜器件的质量要求;4、膜层填充密度;蒸气入射角与柱状结构的生长方向之间的关系：;热蒸发制备的薄膜柱状结构照片;4.2 影响膜层质量的工艺要素;4.2.1 影响膜层质量的工艺要素及作用机理;2.沉积速率（蒸发速率）;影响：膜层结构、凝聚系数、膨胀系数和聚集密度。; 1). 镀前轰击：离子溅射使基片再清洁，提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力； 2).镀中和镀后轰击：提高膜层的聚集密度，促进化学反应，使氧化物膜层折射率提高，机械强度和抗激光损伤阈值提高。;残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1）. 膜层对基片的附着力差； 2）. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3）. 透光性能变差。;9.蒸气入射角 影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。;工艺参数对薄膜性能的影响;4.2.2.提高膜层机械强度的工艺途径;③基片温度。提高基片温度有利于将吸附在基片表面的剩余气体分子排除，增加基片与沉积分子之间的结合力；但基片温度过高会造成膜层变质。;4.2.3控制膜层折射率的主要工艺途径;目视法;4.3.1 目视法 ; ——利用镀膜过程中，膜层的T或R随膜层厚度增加出现极值，根据极值个数，获得以λ/