TRIP590 钢中奥氏体的 EBSD 定量分析实例.pdfVIP

附 录 A （资料性附录） TRIP590 钢中奥氏体的 EBSD 定量分析实例 A.1 估测奥氏体晶粒尺寸 设定测试参数：加速电压：15 kV，步长：0.15 µm ，扫描面积：64 µm×44 µm （放大倍数2000X ）， 并采集EBSD数据。奥氏体的形貌及分布图如图A.1所示，图中蓝色的相为奥氏体，灰色的相为铁素体。 对图A.1 中的奥氏体晶粒尺寸进行统计，平均晶粒尺寸为0.693 µm 。 注：以电解抛光方法去除TRIP 590 试样抛光面上的应力，电解液为 10-20%浓度的高氯酸乙醇溶液。 图 A.1 奥氏体的形貌及分布图 A.2 设定步长 根据“8.4”部分对扫描步长的要求，扫描步长不超过奥氏体平均晶粒尺寸的1/5，即0.139 µm 。 因此，设置步长为0.10 µm进行后续试验。 A.3 采集EBSD数据 重新设置测试参数（包括加速电压为15 kV，步长为0.10 µm ，单视场面积：128 µm×88 µm ）， 2 2 2 采集EBSD数据。共扫描6个视场，扫描总面积为128×88×6 µm =67584 µm ≈0.068 mm 。图A.2为其 中1个视场的奥氏体的形貌及分布图，6个视场的标定率列于表A.1 。 7   图 A.2 奥氏体的形貌及分布图 表 A.1 各视场的标定率 No. 标定率，% 1 97.46 2 96.79 3 97.69 4 98.06 5 96.93 6 97.47 A.4 降噪处理和奥氏体含量计算 以 15°定义晶界，去除小晶粒。判定小晶粒的标准为：晶粒包含 5 个以下像素，或者晶粒等面积 圆直径小于0.25μm 。对数据做降噪处理，以5 个最近邻标定点的数据平均值对零解点赋值。降噪后各 视场的奥氏体含量列于表 A.2 。 表 A.2 奥氏体含量测量结果 视场 奥氏体含量，% 1 4.61 2 4.44 3 3