垂直铺塑防渗帷幕特性及其施工质量无损检测.docVIP

垂直铺塑防渗帷幕特性及其施工质量无损检测.doc

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好风光好风光恢复供货才 垂直铺塑防渗帷幕特征及其施工质量无损检测 宋克民 ( 吉林省水利水电勘察设计研究院,长春 130012) 【纲要】 本文阐述了垂直铺塑防渗帷幕特征及采纳双摆列电阻率法实现了对垂直铺塑防渗工程施工质量进行无损检测的技术方法。 【重点词 】 垂直铺塑防渗帷幕 防渗膜 双摆列电阻率法 序言 垂直铺塑防渗帷幕(以下简称垂直铺塑) ,1992 年初次应用于地基办理工程中,最近几年来在防洪工程中宽泛采纳的一种新技术。它是利用特意的开槽机械,在设计防渗线上开出 必定宽度(~ 0.30 m )、必定深度(< 20 m =的沟槽,采纳泥浆保护槽壁,在槽内用人工分幅置入或人工协助机械连续置入土工模后再用砂土回填沟槽,形成以防渗膜为主体、 泥浆为协助体的防渗体。该技术充足利用了防渗膜的隔水性,形成的防渗体柔性、均质、 整体性好、防渗成效好, 施工速度快(最高记录为 630 m2/日)、工效高、成本低,适应性 强等特色。 在垂直铺塑的施工过程中, 开槽和铺塑的速度要保持一致, 假如开槽的速度过快, 铺 塑的速度过慢就会塌坑,会造成防渗膜铺设卷底(埋设深度不够)现象;在一些地层条件 复杂的地域(如砂砾层发育的地域)还会出现防渗膜被划破的状况;此外在防渗膜接缝的地方也会出现联合不密切的状况。可见,垂直铺塑防渗帷幕出现质量问题的可能性是极易 出现的。 假如这些质量隐患不被实时获得检测和办理, 汛期到暂时, 地下水位上升, 因为防渗 膜的存在便会使水头压力集中于防渗膜的损坏部位(如防渗膜存在孔洞或未搭接好有漏铺 等问题),这种压力的集中更简单造成集中渗漏和浸透稳固问题, 惹起垮坝结果。 在这种情 况下,防渗膜的布设反而会造成新的堤坝隐患,起到相反的成效。 为了防备因防渗膜布设造成谨防工程新隐患, 在防渗膜铺设达成后, 一定对铺设质量 进行实时检测; 洪水季节迅速监测垂直铺塑运转状况, 能够实时发现险情, 实时采纳举措。 当前, 垂直铺塑检测多采纳测压管法和依照施工前后堤内、 外水位变化剖析判断法及 大开挖直接察看法。 此中,前两种方法, 存在着对防渗膜铺设出现的质量问题检测不全面、不详细, 属宏观定性的检测方法; 后一种方法, 固然是直接察看, 属微观定量的检测方法,但存在受地下水位限制,从经济、安全责任考虑,不可以大面积开挖等很多不足。 此外,经过实践证明鉴于地球物理场的 CT 方法和地质雷达检测方法,对防渗膜铺设出现的质量问题也很难查明。 综上所述, 研究一种平常能检测垂直铺塑施工质量, 汛期能监测垂直铺塑运转状况的迅速全面检测系统,是特别必需的,也是急迫需要解决的。 2 防渗膜的物理力学特色 防渗膜是一种抗腐化的聚乙烯塑料物质,厚度一般采纳 ~ 0.5 mm,规格尺寸各不 相同,抗拉性能强,是一种绝缘物质,施工时对防渗膜的质量室内查验与控制标准为 SL/T 235-1999《土工合成资料测试规程》 。 针对垂直铺塑这种纤薄直立的防渗体对电流场影响极为显然, 故进行防渗膜散布范围 和散布状况探测,可经过剖析比较防渗膜的存在对谨防地基电流场影响的不一样程度即可反应出防渗膜的存在状况,鉴于电场理论的高密度电阻率法在最近几年来的细小构造物的探测中达到了很好的成效,展开垂直铺塑质量检测和监测在技术上是可能和可行的。 防渗膜在地层中的散布拥有直立、纤薄的特色,从电场的理论角度来讲,它近似散布在地层中的直立高阻板,但它的电阻率为无量大,厚度趋势于无量小;从弹性波场的角度来剖析,固然防渗膜的波阻抗和四周介质的波阻抗差异较大,但因为其直立散布的产状和纤薄的特色,我们很难在反射剖面上接收到,在折射结果中分辨出薄膜的反应。 防渗膜对静电场影响能力 大亮子段现场试验 当测线以必定的角度和防渗膜订交进行探测时, 防渗膜能够归纳为高阻板的地电模型,但它和传统意义上的高阻板对比较更薄。 为了考证这种特别地电模型对静电场的影响能力, 1999 年 11 月 2 日 -7 日我们在吉林省第二松花江大亮子段进行了野外试验。现场实验时沿 和防渗膜不一样交角的方向部署了 5 条测线,选择不一样的收集装置共收集剖面 17 条。 现场防渗膜沿大堤布设,与大堤的根部大概有 5-6 m,防渗膜垂直埋设,设计埋深为 7 m。测线布设方向和膜的埋设方向大概成 30 度角,小号点在河床中, 大号点在堤坝的下部。收集装置为温纳方法,电极数为 30,电极间距为 2 m。26 m 处的红色高阻区对应膜的铺设地点,能够看到膜的整体反应,相应付膜深度的反应,需要现场资料的标定。从采得的电 阻率剖面图上能够看到防渗膜表现为一高阻直立体且顶、底界面清楚,进而表示了高密度电阻率法对防渗膜埋深的测试拥有必定的有效性,垂直防渗膜布线能够解决防渗膜埋深的检测问题。另一方面也反应了防渗膜的存在改

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