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涂层流程大纲 涂层流程大纲 PAGE / NUMPAGES 涂层流程大纲 PVD涂层技术及工艺流程 真空涂层技术的发展 真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年月才出现将 CVD(化学气相堆积 ) 技术应用于硬质合金刀具上。因为 该技术需在高温下进行 ( 工艺温度高于 1000 oC)，涂层种类单调，限制性很大，所以，其发展早期不免差强者意。 到了上世纪七十年月末，开始出现 PVD(物理气相堆积 ) 技术，为真空涂层 创始了一个充满绚烂远景的新天地，以后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术 获取迅猛发展， 究其原由， 是因为其在真空密封的腔体内成膜， 几乎无任何环境 污染问题，有益于环保 ; 因为其能获取光明、华贵的表面，在颜色上，成熟的有 七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜 色，堪称五彩斑斓， 能够知足装修性的各样需要 ; 又因为 PVD 技术，能够轻松得 到其余方法难以获取的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、 模具上边，能够使寿命成倍提升， 较好地实现了低成本、高利润的成效 ; 别的，PVD涂层技术拥有低温、高能两个特色，几乎能够在任何基材上成膜，所以，应用范 围十分广阔，其发展神速也就不以为奇。 真空涂层技术发展到了今日还出现了 PCVD(物理化学气相堆积 ) 、MT-CVD(中温化学气相堆积 ) 等新技术，各样涂层设施、各样涂层工艺层见迭出，此刻在这 一领域中，已体现出百花齐放，百花怒放的喜人情景。 与此同时，我们还应当清醒地看到， 真空涂层技术的发展又是严重不均衡的。 因为刀具、模具的工作环境极其恶劣，对薄膜附着力的要求，远高于装修涂层。 因此，只管装修涂层的厂家已遍及各地， 但能够生产工模涂层的厂家其实不多。 再加上刀具、模具涂层售后服务的短缺， 到当前为止， 国内大部分涂层设施厂家都不可以供应完好的刀具涂层工艺技术 ( 包含前办理工艺、涂层工艺、涂后办理工艺、检测技术、涂层刀具和模具的应用技术等 ) ，并且，它还要求工艺技术人员，除了精晓涂层的专业知识之外， 还应拥有扎实的金属资料与热办理知识、 工模涂层前表面预办理知识、刀具、模具涂层的合理选择以及上机使用的技术 要求等，假如任一环节出现问题， 都会给使用者产生使用成效不理想这样的结论。全部这些，都严重限制了该技术在刀具、模具上的应用。 另一方面，因为该技术是一门介乎资料学、物理学、电子、化学等学科的新兴边沿学科，而国内将其应用于刀具、 模具生产领域内的为数不多的几个骨干厂家，大多走的也是一条从外国引进先进设施和工艺技术的门路，尚需一个消化、 汲取的过程， 所以，国内当前在该领域内的技术力量与其发展很不相当， 急需急起直追。 PVD 涂层的基本观点及其特色 PVD 是英文“ Physical Vapor Deposition ”的缩写形式，意思是物理气相堆积。我们此刻一般地把真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀等都称为物理气相堆积。 较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设施构造简单，简单操作。它的离子蒸起源靠电焊机电源 供电即可工作，其引弧的过程也与电焊近似， 详细地说，在必定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触， 断开，负气体放电。 因为多弧镀的成因主假如借助于不停挪动的弧斑， 在蒸起源表面上连续形成熔池， 使金属蒸发后， 堆积在基体上而获取薄膜层的， 与磁控溅射对比， 它不只有靶材利用率高， 更拥有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结协力强的长处。 别的，多弧镀涂层颜色较为稳固，特别是在做 TiN 涂层时，每一批次均简单获取同样稳固的金黄色，令磁控溅射 法瞠乎其后。 多弧镀的不足之处是， 在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下， 当涂层厚度达到 0.3 μ m 时，堆积率与反射率靠近，成膜变得特别困难。并且，薄膜表面开始变朦。 多弧镀另一个不足之处是， 因为金属是熔后蒸发， 所以堆积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。 可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有好坏， 为了尽可能地发挥它们各自的优胜性，实现互补， 将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。 在工艺上出现了多弧镀打底， 而后利用磁控溅射法增厚涂层， 最后再利用多弧镀达到最后稳固的表面涂层颜色的新方法。 大概在八十年月中后期， 出现了热阴极电子枪蒸发离子镀、 热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用成效很好，使 TiN 涂层刀具很快获取普及性应用。此中热阴极电子枪蒸发离子镀， 利用铜坩埚加热消融被镀金属资料， 利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子枪加强离化率，不只好够获取厚度 3~5 μm的 TiN 涂层，并且其结协力、 耐磨性均有不俗表现， 甚至用打磨的方法都难以除掉。 可是这些设施都只合适于 TiN 涂层，或纯金属