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非理想(非完整)晶体的衍射衬度
-层错
材料研究方法
课程内容
一
含缺陷时的衬度
非理想(非完整)晶体的缺陷成像分析
二
一、含缺陷时的衬度
缺陷矢量
相应的相位角为:
一、含缺陷时的衬度
为非理想晶体中存在缺陷而引入的附加相位角,这样晶柱底部的衍射振幅会因缺陷矢量的不同而不同,产生衬度像。
但缺陷能否显现,还取决于
的值。在给定的缺陷,
通过倾转样品台,可选择不同的
成像,当
(n为整数)时,
此时,晶柱底部的衍射振幅与理想晶体相同,缺陷就无衬度,不显缺陷像。
二、非理想晶体的缺陷成像分析
晶体缺陷根据其存在的范围大小可分为点、线、面、体四种缺陷,本节主要介绍层错(面缺陷)、位错(线缺陷)和第二相粒子(体缺陷)的衍衬像。
1.层错
层错是平面型缺陷,一般发生在密排面上,层错两侧的晶体均为理想晶体,且保持相同位向,两者间只是发生了一个不等于点阵平移矢量的位移 ,层错的边界为不全位错。
在面心立方晶体中,层错面为密排面(111),层错时的位移有两种:
(1)沿垂直于(111)面方向上的移动,缺陷矢量:
(2)在(111)面内的移动,缺陷矢量:
二、非理想晶体的缺陷成像分析
设层错的缺陷矢量为
则
面心立方晶体的消光规律可得的可能取值为:0,2,
显然在为0和2时,层错无衬度,不显层错像。可能的只是=
时的层错。
根据层错的存在形式可分为平行于样品表面、倾斜于样品表面、垂直于样品表面和层错重叠等四种形式,其中层错垂直于样品表面时,层错不显衬度,因而不可见,下面仅讨论其他三种层错。
1)平行于薄膜表面的层错
二、非理想晶体的缺陷成像分析
图6-44 平行于膜表面的层错示意图
现以振幅-相位图讨论之。
令
,
因为
二、非理想晶体的缺陷成像分析
二、非理想晶体的缺陷成像分析
二、非理想晶体的缺陷成像分析
2)倾斜于样品表面的层错
合成振幅同样可表示为:
A(t1)=0,A(t)=A(t),层错不显衬度。
层错将显衬度
(1)
(2)
二、非理想晶体的缺陷成像分析
此时的衬度类似于厚度连续变化所产生的等厚条纹,显示为亮暗相间的条纹,条纹方向平行于层错与上、下表面的交线方向,其深度周期为 1/s.
(a)NiTiHf合金中的层错像(b)Nimonic高温合金基体中的层错
(c)单斜ZrO2中的孪晶 (d)Ni基超合金中的层错与等厚条纹
图6-47 层错、孪晶及等厚条纹衍射衬度像
(a)
(b)
(c)
(d)
二、非理想晶体的缺陷成像分析
层错条纹不同于等厚条纹:区别:
1)层错条纹出现在晶粒内部,一般为直线状态,等厚条纹在晶界顺着晶界变化的弯曲条纹;
2)层错条纹的数目取决于层错倾斜的程度,倾斜程度愈小,条纹数目愈少,在不倾斜(即平行于表面)时,条纹仅为一条等宽的亮带或暗带,层错条纹与等厚条纹的深度周期均为1/S.
3)层错的亮暗带均匀,且条带亮度基本一致,而等厚条纹亮度渐变,由晶界向晶内逐渐变弱。
层错条纹也不同于孪晶像:区别:
孪晶相是亮暗相间、宽度不等的平行条带,同一衬度的条带处在同一位向,而另一衬度条带为相对称的位向;
注意:1)层错可以改变g而消失
2)等厚条纹与孪晶不可以通过改变g而消失
二、非理想晶体的缺陷成像分析
3)重叠层错
(a)两个同类型层错 (b)三个同类型层错 (c)两个相反类型的层错
图6-48面心立方晶体中的重叠层错示意图
图6-48a为两种同类型层错重叠
重叠部分附加相位角
有条纹衬度
图6-48b为三个同类型层错重叠
二重部分的合成相位角
层错显衬度,
而三重部分
不显条纹像
图6-48c为两相反类型的层错重叠
重叠部分不显衬度,无条纹像出现
二、非理想晶体的缺陷成像分析
图6-49不锈钢中的重叠层错
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