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- 2021-09-08 发布于河北
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2021/9/5;; 主 要 内 容;;2、PCB的演变;3、PCB的分类;;;;;;4、PCB流程介绍;A、内层线路流程介绍(微影);内层线路--开料介绍;化学前处理(PRETREAT):
目的:
通过微蚀液,去除铜面上的污染物,增加铜面粗糙度,以利于后续的压膜及线路制作
;压膜(LAMINATION):
目的:
将经处理之基板铜面透过热压方式贴上抗蚀干膜
主要生产物料:干膜(Dry Film)
工艺原理:
;曝光(EXPOSURE):
目的:
经光线照射作用将原始底片上的图像转移到感光底板上
主要生产工具: 底片/菲林(film)
工艺原理:
白色透光部分发生光聚合反应, ??色部分则因不透光,不发生反应,显影时发生反应的部分不能被溶解掉而保留在板面上。;显影(DEVELOPING):
目的:
用碱液作用将未发生化学反应之干膜部分冲掉
主要生产物料:K2CO3
工艺原理:
使用将未发生聚合反应之干膜冲掉,而发生聚合反应之干膜则保留在板面上作为蚀刻时之抗蚀保护层。
说明:
水溶性干膜主要是由于其组成中含有机酸根,会与弱碱反应使成为有机酸的盐类,可被水溶解掉,显露出图形;蚀刻(ETCHING):
目的:
利用药液将显影后露出的铜蚀掉,形成内层线路图形
主要生产物料:蚀刻药液(CuCl2);去膜(STRIP):
目的:
利用强碱将保护铜面之抗蚀层剥掉,露出线路图形
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