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2021-09-09 发布于广东
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6.7 光纤光栅的应用.pdf

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光纤光学 6.7 光纤光栅的应用光纤光栅的制备将光纤暴露在紫外光进行刻制而实现的。折射率的变化是很微用244 nm 等波长的小的， 0.0001的变紫外光可改变纤芯的化已足够来实现光栅。折射率。图片来源：百度百科，百度图片光纤中的光敏性掺杂光纤中的光敏性—色心理论 MOCVD光纤预制棒制备过程掺锗光纤中，缺陷中心：缺陷类型吸收带 Ge(1) 281nm Ge(2) 213nm 吸收光子 P-OHC 260nm NBOHC 260nm, 600nm GODC 240nm, 325nm and 480nm GeE’ 195nm Ge/ Si 自发复合 DID 630nm 表1 不同缺陷中心形成的吸收带曝光过程的化学键变化图片来源：fiber - 增敏原理如何增强光纤光敏性光纤增敏的基本原理为增加光纤中的缺陷，主要的方法有： • 增加锗（ germanium ）的掺杂 • 硼（ Boron ）与铝（ Aluminium ）的共掺杂可增加光纤的光敏性。 • 载氢光纤光栅制备方法全息法 • Meltz 等人在1989年首次报道了光纤侧向刻写方法— —双光束全息法； •高相干紫外光源； •任意周期光栅制作；布拉格波长与反射镜位置关系： n   eff UV  L   1  sin atan( )  2L −L 