【教学大纲】薄膜科学与技术大纲.docxVIP

《薄膜科学与技术》课程教学大纲 课程名称：薄膜科学与技术 课程类别：专业选修课 适用专业：化学 考核方式：考查 总学时、学分： 32 学时 2 学分 其中实验学时： 0 学时 一、课程教学目的 自本世纪七十年代以来，薄膜技术与薄膜材料得到突飞猛进的发展，无论在学术上还是在实际应用中都取得了丰硕的成果，并已成为当代真空科学与技术和材料科学中最活跃的研究领域。薄膜技术、薄膜材料、表面科学相结合推动了薄膜产品全方位的开发与应用。本课程通过讲授真空及薄膜的物理基础、薄膜制备工艺、薄膜的形成和结构、薄膜结构的表征技术等内容，目的是使学生掌握基本的薄膜物理和化学制备技术，并了解薄膜材料的基本特点和物性检测的主要方法，从而拓宽学生的知识领域，培养出知识结构更为合理的优秀人才。 二、课程教学要求 通过本课程的学习，要求学生初步掌握真空及薄膜的物理基础，对真空获得、真空测量、气体放电、等离子体物理、离子溅射、薄膜生长等有较深入的了解；在重点掌握真空蒸镀、溅射、化学气相沉积等基本工艺的基础上，对迅速发展的薄膜技术有全面的了解；通过资料调研和课堂讨论，在重点了解一两种薄膜材料的基础上，对各种类型薄膜材料的制备、结构、性能及应用有系统的了解。通过本课程的学习，要求能够使用多种类型薄膜材料的设备、分析多种类型的薄膜的性能，并初步具备开发新设备、制备新材料的能力。 三、先修课程 学生学习完《功能材料概论》、《材料物理化学》、《材料现代表征技术》和《材料物理导论》以后开设本课程。 四、课程教学重、难点 本课程重点是真空的获得及测量、蒸发法、溅射法、化学气相沉积以及薄膜生长与形核理论。 本课程难点是气体放电、薄膜热力学与动力学以及薄膜生长与结构。 五、课程教学方法与教学手段 教学方法：课程讲授中采用启发式教学，突出重点，讲透原理，把镀膜技术的发展和课程教学紧密结合起来，培养学生思考问题、分析问题和解决问题的能力。 教学手段：在教学中采用板书、电子教案及多媒体教学等相结合的教学手段，以确保全面、高质量地完成课程教学任务。 六、课程教学内容 第1章 薄膜制备的真空技术基础（4学时） 1．教学内容 (1)气体分子运动论的基本概念：气体分子的速度及其分布；气体的压强和平均自由程；气体分子在表面上的碰撞；真空的划分； (2)气体的流动状态和真空抽速：气体的流动状态；气体管路的流导；真空泵的抽速； (3)真空的获得：真空泵以及工作原理； (4)真空的测量：热偶规；离子规。 2．重、难点提示 (1)教学重点：真空物理基础知识； (2)教学难点：真空泵工作原理和真空测量的基本原理。 第2章 蒸发法（6学时） 1．教学内容 (1)物质的热蒸发：真空蒸发原理；蒸发镀膜过程；饱和蒸气压和温度的关系；蒸发速率；化合物的蒸发；合金的蒸发； (2)薄膜沉积的厚度均匀性与纯度：沉积的几何方向性对薄膜均匀性的影响；蒸发源的几何形状对薄膜均匀性的影响；蒸发源与基片的相对位置配置；薄膜纯度； (3)真空蒸发装置：电阻蒸发源装置；电子束蒸发装置；电弧蒸发装置；高频感应蒸发装置；脉冲激光沉积装置。 2．重、难点提示 (1)教学重点：影响薄膜纯度和厚度均与性的因素，真空蒸镀技术； (2)教学难点：各种蒸发装置的工作原理。 第3章 溅射法及其他物理气相沉积方法（8学时） 1．教学内容 (1)气体的放电现象：溅射的发展及热点；辉光放电； (2)物质的溅射现象：溅射特性；溅射过程；； (3)溅射机理：热蒸发理论；动量转移理论； (4)溅射镀膜类型：直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、偏压溅射； (5)其他物理气相沉积方法方法：离子镀。 2．重、难点提示 (1)教学重点：气体的辉光放电，溅射镀膜技术； (2)教学难点：溅射的机理以及各种溅射镀膜的原理。 第4章 薄膜的化学气相沉积（4学时） 1．教学内容 (1)化学气相沉积反应的类型：高温分解反应；氧化反应；合成反应；歧化反应； (2)化学气相沉积过程的热力学：热力学计算的目的；Si单晶薄膜生长的热力学计算； (3)化学气相沉积过程的动力学：气体输运过程；气体输运与薄膜均匀性；Si单晶薄膜生长的动力学计算； (4)化学气相沉积装置：高温大气压CVD；低温大气压CVD；低气压CVD；金属有机CVD；激光增强CVD；等离子体增强CVD。 2．重、难点提示 (1)教学重点：化学气相沉积工艺； (2)教学难点：化学气相沉积的热力学和动力学计算。 第5章 薄膜的生长过程和薄膜结构（6学时） 1．教学内容 (1)薄膜生长过程概述； (2)薄膜的自发和非自发形核理论； (3)连续薄膜的形成； (4)薄膜生长过程和结构； (4)非晶薄膜； (4)薄膜的外延生长。 2．重、难点提示 (1)教学重点：薄膜的