化学气相沉积技术.pptVIP

化学气相沉积的特点: ①保形性: 沉积反应如在气固界面上发生，则沉积物将按照原有固态基底的形状包复一层薄膜。 ②如果采用某种基底材料，在沉积物达到一定厚度以后又容易与基底分离，这样就可以得到各种特定形状的游离沉积物器具。 ③可以沉积生成晶体或细粉状物质，甚至是纳米尺度的微粒。（使沉积反应发生在气相中而不是在基底的表面上） ④可以得到单一的无机合成物质。 4、化学气相沉积的应用 第三十页，共58页 根据CVD的特点，其主要应用在： CVD特点 CVD应用 保形性 晶粒可控性 制备环境纯净 薄膜材料及器件 低维材料 超纯物质 第三十一页，共58页 PECVD较普通CVD镀膜的优势： 1)可以低温成膜，对基体影响小； 2)膜厚和成分均匀； 3)膜层对基体的附着能力强； 4)扩大了化学气相沉积的应用范围，特别是提供了在不同的基体上制备各种金属薄膜，晶态无机薄膜、有机聚合物薄膜的可能性。 4.1 制备薄膜或薄膜器件 第三十二页，共58页 纳米金 刚石膜 普通金刚石膜的 一切优异性能 表面更光滑 摩擦系数更低 导电性更强 场发射性 能更好 电化学电极 光学涂层 耐磨涂层 普通金刚石 膜应用领域 场发射阴极 本研究 应用背景 实例1：PECVD法制备纳米金刚石薄膜 第三十三页，